磁性溅射靶材透磁率测试方法-中国有色金属标准质量信息网.doc

磁性溅射靶材透磁率测试方法编制说明 1 工作简况 1.1任务来源 如钴靶材、镍基合金靶材、铁基合金靶材等磁性溅射靶材均具有较高的磁导率，用于磁控溅射，磁场将多集中在靶材中，而散布在靶材之外的磁场较少，磁控溅射工艺中用散磁场提高离化效率的目的难以达到，必须经过一系列的组织控制工艺改善其透磁性能。透磁率可以作为评估磁性靶材透磁性能的有效指标，其测试方法还没有相应的行业标准，很大程度上制约了国内磁性溅射靶材的研发、制作及工业化生产。因此，需要制定相关的标准，以促进现有产品质量的提高，确保磁性溅射靶材透磁率的检测规范统一，符合统一标准。 根据国标委《关于编制2015年有色金属国家、行业标准项目计划的通知[2013]32】号“关于转发201T-610）文下达本标准的制定任务，主管部门为中国有色金属工业协会，技术归口单位为全国有色金属标准化技术委员会，起草单位为有研亿金新材料有限公司。 1.2 起草单位 有研亿金新材料有限公司简称，。拥有30多年专业从事稀有和贵金属材料研究、开发和生产经验，获得并积累了一大批国家和部级科研成果，培养造就了大批科研、生产人才。有研亿金历年承担国家军工配套项目和军工新产品试制项目近百项，获部级奖56项，国家专利38项，国家科技进步奖3项，国家发明奖9项，全国科学大会奖2项，国家科技进步奖特等奖子项奖1项。中国有色金属工业协会有研亿金新材料有限公司起草检索国内外有关技术标准和资料，相关生产企业，吉林华微电子股份有限公司 本标准适用于溅射薄膜用各类磁性靶材透磁率的检验。 3.2 规范性引用文件 无。 3.3 技术要求 3.3.1 测试样品 对于进行透磁率测试的靶材表面要求平整，厚度公差必须符合GB/T 1804的要求，其形状可以为圆形、长条形、三角形等。磁性溅射靶材在经过一系列加工后内部会有不同程度的剩磁存在。测试前需进行磁场强度测量，在远离各种磁场情况，采用手持高斯计对待测样品表面磁场进行测量若靶材表面磁场强度小于2Guass，即满足测试要求，否则，需用交流退磁机对靶材进行退磁。 3.3.2 测试仪器 在进行透磁率测试作业中需要配备样品台、磁铁、高斯计。其中样品台用于承载并固定靶材；磁铁作为源磁体提供一定强度的磁场；高斯计是，有横向场霍尔探高斯计直流磁场测量范围为至35002％，霍尔探头位于样品上方，且仅能上下移动并与磁铁在水平位置上相对固定，要求在磁铁两极正中位置。 3.3.3 检验过程 将样品固定样品台指定位置后标记起始位置，顺时针旋转靶材2圈以上使靶材完全磁化，然后移动霍尔探头至预设位置，将靶材按照均匀分配的角度旋转，记录每个角度对应的高斯计读数，对所得数据进行分析绘制透磁率曲线。 3.3.4 检验报告 完成检验后应出具检验报告，检验报告包含靶材基本情况、透磁率曲线和平均值、极值等信息。 4 标准水平分析 4.1 标准水平简析 通过文献检索，网上查询，国内外并没有磁性溅射靶材透磁率测试方法的相关国家、行业标准，本标准为首次制定。在标准制定过程中，总结国内外磁性材料测试方法，并调研了国内外先进靶材制造商的产品性能指标和国内外靶材使用厂商对靶材的基本要求，首次对磁性溅射靶材透磁率测试方法制定了标准， 确定该标准总体水平为国际先进水平。 4.2 标准创新点 4.2.1 本标准是磁性溅射靶材透磁率测试方法的基础标准，磁性溅射靶材透磁率直接关系磁性溅射靶材的最基本性能，填补了磁性溅射靶材透磁率测试方法相关国家的空白。本标准在编制过程中，对国内外生产厂家和磁性溅射靶材使用厂商进行了充分的调研，对各项指标的确定进行了详细论证，保证了本标准的可执行性。 4.2.2 通过本标准的制定，为全面制定半导体尤其是集成电路用电子材料系列标准奠定了基础，为磁性溅射靶材透磁率测试方法提供了依据，对磁性溅射靶材制造具有广泛的借鉴意义和推广价值。 4.2.3 本标准在编制过程中，有研亿金多次对国内多个具有代表性的厂商进行摸底和调研，收集了大量的磁性溅射靶材透磁率测试方法参考数据，并多次召开内部会议，使得标准在起草过程中始终具有代表性，是对标准编制方法的创新。 4.3 标准的覆盖面 本标准从制定之初就对磁性溅射靶材透磁率测试方法进行了大量的调研，对磁性溅射靶材透磁率测试方法的样品要求、检验设备、检验过程、数据处理、检验报告等方面进行了全面说明。因此，本标准在磁性溅射靶材透磁率测试方法领域具有较强的覆盖性。 5 与现行相关法律、法规、规章及相关标准，特别是强制性标准的协调性 本标准属于磁性溅射靶材透磁率测试方法基础标准，没有现行的法律、法规、规章制度等对其要求，本领域没有强制性标准。 6 专利及涉及知识产权 本文件起草过程中没有检索到专利和知识产权问题，如果涉及到专利和知识产权时请使用单位与专利和知识产权方协商，本