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拉扎维模拟集成电路精讲ppt第一讲mos器件特性教程
第二章
MOS器件物理基础;2.1 基本概念;;N阱;MOS符号;MOS管正常工作的基本条件;;NMOS器件的阈值电压VTH;阈值电压( VTH )定义
NFET的VTH通常定义为界面的电子浓度等于P型衬底的多子浓度时的栅压。
;“本征”阈值电压
通过以上公式求得的阈值电压,通常成为“本征”阈值电压.
在器件制造工艺中,通常通过向沟道区注入杂质来调整VTH
;Qd:沟道电荷密度;I/V特性的推导(2);三极管区的MOSFET(0 VDS VGS-VTH);I/V特性的推导(3);饱和区的MOSFET(VDS ≥ VGS-VT);NMOS管的电流公式;MOSFET的I/V特性;MOSFET的跨导gm;2.3 二级效应
体效应
沟道长度调制
亚阈值导电性
电压限制
;MOS管的开启电压VT及体效应;MOS管的开启电压VT及体效应;衬底跨导 gmb;MOSFET的沟道调制效应;MOS管沟道调制效应的spice仿真结果;亚阈值导电特性;MOS管亚阈值导电特性的spice仿真结果;电压限制
栅氧击穿
过高的GS电压。
“穿通”效应
过高的DS电压,漏极周围的耗尽层变宽,会到达源区周围,产生很大的漏电流。;MOS器件版图;MOS器件电容;减小MOS器件电容的版图结构;栅源、栅漏电容随VGS的变化曲线;栅极电阻;;完整的MOS小信号模型;MOS SPICE模型
在电路模拟(simulation)中,SPICE要求每个器件都有一个精确的模型。
种类
1st 代:MOS1,MOS2,MOS3;
2nd代:BSIM,HSPICE level=28,BSIM2
3rd代:BSIM3,MOS model9,EKV(Enz-Krummenacher-Vittoz)
目前工艺厂家最常提供的MOS SPICE模型为BSIM3v3
(UC Berkeley)
仿真器:
HSPICE;SPECTRE;PSPICE;用简单的模型设计(design),用复杂的模型验证(verification);
模型用于:
大信号静态 (dc variables)
小信号静态 (gains, resistances)
小信号动态 (frequency response, noise)
大信号动态
计算机模型(spice model)用于计算机验证,而非用于设计;NMOS器件的电容--电压特性;本章基本要求
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