杨晓玲-基底温度对磁控溅射制备钽膜的影响究doclnk4.docVIP

本科毕业论文（设计） 基底温度对磁控溅射制备钽薄膜的影响 学 院： 大数据与信息工程学院 专 业： 电子科学与技术 班 级： 电技10-1 学 号： 1007010043 学生姓名： 杨晓玲 指导教师： 周章渝 2014年6月8日 贵州大学本科毕业论文（设计） 贵州大学本科毕业论文（设计） 诚信责任书 本人郑重声明：本人所呈交的毕业论文（设计），是在导师的指导下独立进行研究所完成。毕业论文（设计）中凡引用他人已经发表或未发表的成果、数据、观点等，均已明确注明出处。 特此声明。 论文（设计）作者签名： 日 期： 目录 TOC \o 1-3 \t \h \z \u  HYPERLINK \l _Toc10909 摘要  PAGEREF _Toc10909 1  HYPERLINK \l _Toc24742 Abstract  PAGEREF _Toc24742 2  HYPERLINK \l _Toc15292 第一章 引言  PAGEREF _Toc15292 4  HYPERLINK \l _Toc7326 参考文献  PAGEREF _Toc7326 4  HYPERLINK \l _Toc9851 第二章 金属薄膜制备技术  PAGEREF _Toc9851 6  HYPERLINK \l _Toc14984 2.1 金属薄膜制备技术的分类  PAGEREF _Toc14984 6  HYPERLINK \l _Toc998 2.1.1 电镀和化学镀  PAGEREF _Toc998 6  HYPERLINK \l _Toc2031 2.1.2 真空蒸发镀膜法  PAGEREF _Toc2031 7  HYPERLINK \l _Toc18779 2.1.3 溶胶-凝胶法  PAGEREF _Toc18779 8  HYPERLINK \l _Toc4784 2.1.4 离子镀膜法  PAGEREF _Toc4784 9  HYPERLINK \l _Toc27480 2.1.5 化学气相沉积  PAGEREF _Toc27480 10  HYPERLINK \l _Toc27421 2.1.6 磁控溅射技术  PAGEREF _Toc27421 11  HYPERLINK \l _Toc6020 参考文献  PAGEREF _Toc6020 14  HYPERLINK \l _Toc29785 第三章 钽的性质与特点  PAGEREF _Toc29785 15  HYPERLINK \l _Toc18478 3.1 钽及钽特性  PAGEREF _Toc18478 15  HYPERLINK \l _Toc7266 3.2钽薄膜研究进展  PAGEREF _Toc7266 16  HYPERLINK \l _Toc17562 参考文献  PAGEREF _Toc17562 17  HYPERLINK \l _Toc24999 第四章 采用磁控溅射技术制备钽薄膜  PAGEREF _Toc24999 19  HYPERLINK \l _Toc31950 前言  PAGEREF _Toc31950 19  HYPERLINK \l _Toc31265 4.1实验过程  PAGEREF _Toc31265 19  HYPERLINK \l _Toc25795 4.2实验结果与讨论  PAGEREF _Toc25795 21  HYPERLINK \l _Toc20539 4.2.1不同基底温度对钽膜的AFM表征  PAGEREF _Toc20539 21  HYPERLINK \l _Toc21030 4.2.2 不同的基底温度对钽膜的XRD表征  PAGEREF _Toc21030 23  HYPERLINK \l _Toc27676 第五章 总结与展望  PAGEREF _Toc27676 24  HYPERLINK \l _Toc14601 5.1 总结  PAGE