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LCD 2006 用正交试验设计改善ITOCF基板的清洗效果 张金龙荆海马凯 中国科学院长舂光学精密机械与物理研究所；北方液晶工程研究开发中心，吉林长春130031 布不均匀，从而液晶分子排列不整齐、驱动时显示不均或对 摘要 比度下降；在成盒灌入液晶后，还会使液晶劣化，降低液晶 分析了ITO及CF玻璃基板表面污染的主要类型为有机物污渍 显示器的可靠性。 和灰尘颗粒，污染主要来源于产品制作、包装、转运过程。利 在生产实践中，经过大量的实验，借助钨灯、钠光灯箱、 用正交试验设计法找出影响清洗效果的主要因素是清洗液浓 显微镜、数字读数仪等分析手段分析短、断路产生的原因及 度和超声清洗条件，并确定最优因素水平组合。优化后工艺 污染的来源，大致可分以下几类： 条件应用于生产实践，测得接触角小于5。，灰尘粒子数平均 2．1 ITO或CF制作过程发生的污染 少于6个；使线间隙≥8．0斗m的CSTN—LCD产品生产良品 图l表示ITO层内的金属氧化物污染，是在ITO膜溅射 率提高2．85％。 膜溅射前CF表面被污染【8】，导致溅射后ITO膜脱落。以上问 关键词 题需与供应商沟通解决。 CSTN—LCD；有机污渍；灰尘颗粒；正交试验设计；清洗液 2．2产品转运、包装、拆包、取放过程中产生的污染 浓度；超声清洗；接触角 图3表示取放过程中接触ITO表面产生的典型的有机脂 类物质污染，图4表示包装、转运过程中环境及材料不洁净导 1引言 致的灰尘颗粒污染。以上需提高环境净化度和规范工艺操作 液晶显示器(LiquidCrystalDisplay：LCD)以其体积 细则来改善。 小、重量轻、低电压、微功耗、平板化、易与COMS集成电 2．3污染经涂胶、刻蚀工序后的状态 路匹配应用于便携式显示等特点，自上世纪60年代出现LCD 图5表示有机污渍涂胶后的状态，由图片可以看到有机 显示模式以来，得到人们的广泛重视，取得迅速发展，并已 污渍上光刻胶不浸润，在其周围圆形区域内ITO裸露、无保 逐渐取代CRT成为平板显示的主流产品【n”。实用化的液晶 护；因此刻蚀后此部分ITO被腐蚀掉，形成环状断路，如图 显示器要具有良好的显示特性、稳定的电学特性、长期的可 6所示，多条电极断路。 靠性而玻璃基板上的污渍或灰尘等污染使显示特性劣化，降 低可靠性这就对液晶显示器的制造技术提出严格的要求[5】。 3正交试验设计及结果分析 本文将重点讨论CSTN—LCD用ITO及CF玻璃基板清洗效果 的改善，以及用正交实验设计法获得最佳工艺条件，以提高 3．1清洗方法及工艺 器件的显示特性和可靠性，提高生产良品率，降低成本。 以上讨论了污