学习报告-副本.docx

入职培训学习报告作者：**感谢芜湖通潮精密机械股份有限公司给了我这次学习的机会。转眼间我在公司学习已经一个月了，在这次培训中我有了很大的收获。正是这次培训使我接触了TFT这个行业，给了我一定基础知识。以下是我在这次培训学习中的心得和体会。一：厂级安全安全教育是每个新人入职培训时都必须学习的知识。它的目的是防止和减少安全生产事故，从而保证人员安全、保护公司和国家财产不受损失，促进社会经济发展。首先此次培训使我明白了三级安全教育包括：入场教育、车间教育、班组教育；安全生产方针：安全第一、预防为主、综合治理；以及在安全生产中的安全术语，有四不放过原则：是指在调查处理工伤事故时，必须坚持事故原因分析不清不放过、没有采取切实可行的防范措施不放过、事故责任人没受到处罚不放过、他人没受到教育不放过；三违：违章指挥、违章作业、违反劳动纪律；四不伤害：不伤害自己、不伤害别人、不被别人伤害、帮助别人不受伤害。明白了从业人员享有的权利和义务，从业人员在作业过程中，应当严格遵守本单位的安全生产规章制度和安全操作规程，服从管理；了解安全生产中安全色红、蓝、黄、绿四种颜色的含义。红色：表示禁止、停止、危险的意思；蓝色：表示指令、必须遵守的意思；黄色：表示注意、警告的意思；绿色：表示通行、安全和提供信息和意思。了解灭火器材的使用方法，消防栓的使用；灭火器的使用：1、右手握着压把，左手托着灭火器的底部，轻轻地取下灭火器；2、右手提着灭火器到现场；3、除掉铅封；4、拔掉保险销；5、左手握着喷管，右手提着压把；6、在距火焰两米的地方，右手用力压下压把，左手握着喷管左右摆动，喷射干粉覆盖整个燃烧区。以及火灾发生后自救逃生的方法。以下是我在这次培训期间学习到技术知识。二、wafer加工及半导体客户氧化→研磨→清洗→曝光→蚀刻→粒子注入→沉积；中电熊猫地点在南京，生产是8.5G和6G产品；华星光电地点在深圳，生产是8.5G产品；三、TFT TFT是薄膜晶体管的缩写。TFT式显示屏是各类笔记本电脑和台式机上的主流显示设备，该类显示屏上的每个液晶像素点都是由集成在像素点后面的薄膜晶体管来驱动，因此TFT式显示屏也是一类有源矩阵液晶显示设备。四、CVD化学气相沉积借由气体混合物发生的化学反应，包括利用热能、等离子体(Plasma)或紫外光照射等方式，在基板表面上沉积一层固态化合物的过程。影响CVD沉积的主要参数：1、沉积温度；2、沉积室压力；3、反应气体的组成与分压。1)PECVD真空腔体构造PECVD产生原理：反应气体在高温和高频射频电源作用下形成等离子体（整体呈现电中性），等离子体中含有正离子、负离子，自由基以及活性基等，这些活性基团通过化学反应和吸附结合作用，形成固体化合物的过程。2）plasma产生的原理在气压恒定的条件下，对气体增加能量(热能，电能等)，当气体中的温度足够高时，气体中的分子就会分解为原子气。进一步升高温度，原子就会分解为带电的自由离子(电子和正离子)，此时气体进入等离子体态。3）PECVD反应过程（1）电子和反应气体发生碰撞，产生大量的活性基；（2）活性基被吸附在基板上，进行表面反应；（3）被吸附的原子在自身动能和基板温度的作用下，在基板表面迁移，选择能量最低的点堆积下来；（4）同时，基板上的原子不断脱离周围原子的束缚，进入等离子体气氛中参与化学反应，达到动态的平衡；（5）不断地补充原料气体，使原子沉积速率大于原子逃逸速率，薄膜持续生长；（6）二次生成物和未反应的气体会经排气口排出。CVD在TFT上生成的各层膜作用作用特性要求G-SiNx（栅极绝缘层）绝缘保护电介质系数高a-Si（通道层）电子沟道电子迁移率高N+ a-Si（欧姆接触层）信号线性传输形成欧姆接触Pas-SiNx（绝缘保护层）绝缘保护抗化学腐蚀性好，抗潮湿我们公司主要是对CVD部件清洗和再生，如真空腔内的扩散器（上电极）和其中陶瓷部件的清洗和再生。五、蚀刻（干蚀刻）蚀刻是TFT镀膜过程中非常重要的一步，它是指用化学或物理方法有选择地从硅片表面去除不需要的材料的过程。蚀刻的基本目的是在涂胶（或有掩膜）的硅片上正确复制掩膜图案。在蚀刻中分为干蚀刻和湿蚀刻，我公司主要是对干蚀刻中部件进行清洗和再生。其中清洗的部件主要有上电极、下电极以及其中的陶瓷零件。干蚀刻是利用气态中产生的等离子体，通过经光刻而开出的掩膜层窗口，与暴露于等离子体中的硅片进行物理和化学反应，刻蚀掉硅片上暴露的表面材料的一种工艺技术法。干蚀刻主要是对非金属膜进行刻画。它的优点是可以获得极其精确的特征图形。干蚀刻既表现出化学的等方向性，又表现出物理的异方向性。干蚀刻腔体构造六、热喷涂（等离子喷涂）热喷涂的基本原理是将涂层材料加热熔化，以高速气流将其雾化成极细的颗粒，并以很高的速度喷射到事先已准备好的工件表面上，形成