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“战略性先进电子材料”重点专项2016年度项目申报指南(指南编制专家名单、形式审查条件要求)[精选]
附件3
“战略性先进电子材料”重点专项
2016年度项目申报指南
依据《国家中长期科学和技术发展规划纲要(2006—2020年)》,按照《国务院关于改进加强中央财政科研项目和资金管理的若干意见》及《国务院印发关于深化中央财政科技计划(专项、基金等)管理改革方案的通知》精神,科技部会同有关部门组织开展了《国家重点研发计划“战略性先进电子材料”重点专项实施方案》编制工作,在此基础上启动本专项2016年项目,并发布本指南。
本专项总目标是:面向国家在节能环保、智能制造、新一代信息技术领域对战略性先进电子材料的迫切需求,支撑“中国制造2025”、“互联网+”等国家重大战略目标,瞄准全球技术和产业制高点,抓住我国“换道超车”的历史性发展机遇,以第三代半导体材料与半导体照明、新型显示为核心,以大功率激光材料与器件、高端光电子与微电子材料为重点,通过体制机制创新、跨界技术整合,构建基础研究及前沿技术、重大共性关键技术、典型应用示范的全创新链,并进行一体化组织实施。培养一批创新创业团队,培育一批具有国际竞争力的龙头企业,形成各具特色的产业基地。
本专项围绕第三代半导体材料与半导体照明、新型显示、大功率激光材料与器件、高端光电子与微电子材料等4个方向部署35个任务,专项实施年限为5年,即2016 ~ 2020年。按照重点突出、分步实施的原则,2016年首批启动4个方向中的15个任务。对于应用示范类任务,其他经费(包括地方财政经费、单位出资及社会渠道资金等)与中央财政经费比例不低于3:1;对于重大共性关键技术类任务,其他经费与中央财政经费比例不低于2:1。针对任务中的研究内容,以项目为单位进行申报。项目设1名项目负责人,项目下设课题数原则上不超过5个,每个课题设1名课题负责人,每个课题承担单位原则上不超过5个。
1. 第三代半导体材料与半导体照明
1.1 大失配、强极化第三代半导体材料体系外延生长动力学和载流子调控规律
研究内容:研究AlN/高Al组分AlGaN及其量子结构、InN/高In组分InGaN及其量子结构的外延生长动力学和缺陷调控规律、光电性质及载流子调控规律;研究蓝光波段高质量量子阱的外延生长动力学,发展提升内量子效率、光提取效率的新机制、新效应和新方法;研究核壳结构量子阱、金属纳米结构耦合量子阱及其光电性质;研究半/非极性量子结构的外延生长、缺陷控制及其光电性质。研究Si衬底和其它大失配衬底上GaN基异质结构的外延生长动力学和缺陷调控规律;研究GaN基异质结构中点缺陷性质及其新型表征手段;研究强电场下载流子输运性质和热电子/热声子驰豫规律;研究表面/界面局域态、体缺陷态对GaN基异质结构及电子器件性能的影响机制和规律。
考核指标:AlN外延层位错密度1×107 cm—2,深紫外波段量子阱发光内量子效率50%;InN室温电子迁移率4000 cm2/Vs;绿光波段量子阱发光内量子效率50%;蓝光波段内量子效率90%;非/半极性面量子阱发光内量子效率50%;核壳结构量子阱Droop效应10%。Si衬底上AlGaN/GaN异质结构二维电子气室温迁移率2300 cm2/Vs;InAlN/GaN异质结构二维电子气室温迁移率2200 cm2/Vs;掌握强电场下载流子输运和热电子/热声子驰豫规律,掌握有效控制GaN基异质结构表面/界面局域态的方法,明确影响和提升电子器件可靠性的物理机制。
预期成果:申请发明专利20项,发表论文50篇。
实施年限:不超过5年
拟支持项目数:1—2项
1.2 面向下一代移动通信的GaN基射频器件关键技术及系统应用
研究内容:研究半绝缘SiC衬底上高均匀性、高耐压、低漏电GaN基异质结构外延生长;设计和研制高工作电压、高功率、高效率、高线性度GaN基微波功率器件;研发低栅漏电流、低电流崩塌效应、低接触电阻GaN基器件制备工艺与提高成品率的规模制备技术及其可靠性技术;研究高热导率封装基材与高频低损耗封装技术;开展GaN基射频电子器件在移动通信宽带、高效率放大设备上的应用研究。
考核指标:4~6英寸半绝缘SiC衬底上GaN基异质结构漏电10 μA/mm,二维电子气室温迁移率2300 cm2/Vs,方块电阻300 Ω/sq;研制出高性能的高效器件、宽带器件和超高频器件,高效器件工作频率2.6 GHz、功率330 W、效率70%,宽带器件工作频率1.8~2.2 GHz、功率330 W、效率60%,超高频器件工作频率30~80 GHz、带宽5 GHz、脉冲功率10 W、效率28%;研制出基于GaN射频器件的高线性度功率放大器系统和多载波聚合功放系统,在移动通信基站领域实现批量应用。形成1~2件国家/行业标准。
预期成果:申请发明专利50项,发表论文30篇,带动行业新增产值20亿元。
实施年限:不超过4年
拟支持项目数:1
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