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超纯水 百科名片 纯度极高的水。集成电路工业中用于半导体原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制备和硅片氧化用的水汽源等。此外，其他固态电子器件、厚膜和薄膜电路、印刷电路、真空管等的制作也都要使用超纯水。 简介超纯水：既将水中的导电介质几乎完全去除，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水。电阻率大于18MΩ*cm，或接近18.3MΩ*cm极限值。 　　超纯水,是一般工艺很难达到的程度，采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理四大步骤，多级过滤、高性能离子交换单元、超滤过滤器、紫外灯、除TOC装置等多种处理方法，电阻率方可达18.25MΩ*cm 　　超纯水是美国科技界为了研制超纯材料(半导体原件材料、纳米精细陶瓷材料等)应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其它适当的超临界精细技术生产出来的水，这种水中除了水分子(H20)外，几乎没有什么杂质，更没有细菌、病毒、含氯二恶英等有机物，当然也没有人体所需的矿物质微量元素，一般不可直接饮用，对身体有害，会析出人体中很多离子。 工艺流程 　　超纯水，目前的主要工艺流程 　　1.预处理----复床 ----混床---抛光树脂 　　2.预处理----反渗透---混床---抛光树脂 　　3.预处理----反渗透----CEDI膜块----抛光树脂 中国国家实验室分析用水标准 　　中国国家实验室分析用水标准（GB6682-92）《分析实验室用水规格和实验方法》： 　　指标名称 一级水 二级水 三级水 　　1级水10MΩ；2级水1MΩ；3级水0.2MΩ 　　PH值范围（25） - - - - 5.0-7.5 　　比电阻MΩ.cm@25 10 1 0.2 　　电导率（25）us/cm≤ 0.1 1 5 　　可氧化物[以O计]mg/L -- 0.08 0.40 　　吸光度（254nm,1cm光程）≤ 0.001 0.01 -- 　　二氧化硅（mg/L） 0.02 0.05 -- 　　蒸发残渣（mg/L） -- 1.0 2.0 区别 　　纯水，高纯水，超纯水的区别 纯水 　　 纯水是指既将水中易去除的强电介质去除，又将水中难以除去的硅 OKP超纯水 酸及二氧化碳等弱电解质去除至一定程度的水。纯水的含盐量在1.0mg/L以下,电导率小于50μs/cm。 高纯水 　　 高纯水是指将水中的导电介质几乎全部去除，又将水中不离解的胶体物质、气体和有机物均去除至很低程度的水。高纯水的含盐量在0. 3mg/L以下,电导率小于0. 2μs/cm。 超纯水 　　超纯水是指将水中的导电介质几乎全部去除，又将水中不离解的胶体物质、气体和有机物均去除至很低程度的水。 概况 　　纯度极高的水。集成电路工业中用于半导体原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制备和硅片氧化用的水汽源等。此外，其他固态电子器件、厚膜和薄膜电路、印刷电路、真空管等的制作也都要使用超纯水。超纯水是指下列杂质含量极低的水：无机电离杂质,如 Ca、Mg、Na、K、Fe、Fe、Mn、Al、HCO婣、CO婣、SO嬄、Cl、NO娱、NO婣、SiO婣、PO等；有机物,如烷基苯磺酸、油、有机铁、有机铝以及其他碳氢化合物等；颗粒,如尘埃、氧化铁、铝、胶体硅等；微生物,如细菌、浮游生物和藻类等;溶解气体, 如N2、O2、CO2、H2S等。超纯水中电离杂质的含量用水的电阻率数值来衡量。理论上,纯水中只有H离子和OH离子参加导电。在25时超纯水的电阻率为 18.3(兆欧·厘米)，一般约为15～18（兆欧·厘米）。 　　超纯水中有机物含量由测定有机物碳含量而定，电子工业超纯水中规定含量为50～200微克／升,并要求直径大于1微米的颗粒性物质每1毫升内含量为1～2个，微生物每1毫升为0～10个。现代采用预处理、电渗析、紫外线杀菌、反渗透、离子交换、超滤和各种膜过滤技术等，使超纯水的电阻率在25时达到18(兆欧·厘米)。 　　依各种原水水质和用户要求的不同，超纯水的制备工艺大体可分为预 超纯水 处理、脱盐和精处理三步。 　　预处理 包括砂滤、多介质过滤、软化、加氯、调节pH、活性碳过滤、脱气等。过滤可除去 1～20微米大小的颗粒，软化和调节pH可防止反渗透膜结垢，加氯是杀菌。活性碳过滤是除去有机物和自由氯，脱气是清除溶于水中的CO2等。 　　脱盐 包括电渗析、反渗透、离子交换。电渗析的原理是在外加直流电场作用下利用阳离子和阴离子交换膜对离子选择性透过，脱盐率可达95％以上。反渗透是渗透现象的逆过程,在浓溶液上加压力,使溶剂从浓溶液一侧通过半透膜向稀溶液一侧反向渗透，脱盐可达98％，并能除去99％的细菌颗粒和溶解在水中的有机物。离子交换的原理是当水通过阳离子交换树脂时，水中的阳离子被阳离子交换树脂吸附，树