曝光工艺流程示意图-1.ppt

玻璃盖板 Cover Lens ITO 氧化铟锡 PR PR ITO 氧化铟锡 8486302200 制造平板显示器用物理气相沉积装置 在来料玻璃盖板表面镀一层 ITO 导电膜 (氧化铟锡) 用于导电， 如图中黄色示意部分 真空镀膜机 玻璃盖板 Cover Lens 镀膜 在镀过 ITO (氧化铟锡) 的玻璃表面均匀涂布一层感光光阻材料 (PR, 如图中蓝色示意部分)， 然后再进行烘烤 涂布机 涂布 8486303900 其他将电路图投影或绘制到感光半导体材料上的装置(制造平板显示器用的机器或装置) 将掩膜版上的电路图图案，投影到涂布在 ITO 玻璃表面的感光光阻 (PR)上 曝光机 UV灯 掩膜版 曝光产品 曝光 UV 光透过掩膜版，照射到曝光产品的感光光阻表面，掩膜版上透明的部分，UV光可以透过并照射到感光光阻上，使光阻产生反应。掩膜版上黑色不透明的部分， UV 光无法透过，故此部分的光阻不产生反应。 从而使掩膜版上的电路图图案，投影到涂布在 ITO 玻璃表面的感光光阻 (PR)上。 UV灯 掩膜版固定位置 曝光产品固定位置 UV灯 掩膜版 曝光产品 曝光 被照射部分 8486304900 其他制造平板显示器用湿法蚀刻、显影、剥离、清洗装置 将显影液喷淋到曝光后的产品表面， 显影液会将被UV光照射发生反应的感光光阻溶解掉，从产品表面去除，留下未被UV光照射的部分，保留在产品表面 显影机 显影 显影（显影机） 曝光后产品 被曝光部分 未被曝光部分 PR 蚀刻 蚀刻（蚀刻机） 8486304900 其他制造平板显示器用湿法蚀刻、显影、剥离、清洗装置 将蚀刻液喷淋到显影后的产品表面， 蚀刻液会将未被感光光阻 PR 覆盖部分的 ITO 蚀刻掉， 留下被感光光阻 PR 覆盖保护的部分，保留在产品表面 蚀刻机 显影后产品 未被曝光部分 PR ITO 氧化铟锡 剥膜 蚀刻后产品 剥膜（脱膜机） 8486304900 其他制造平板显示器用湿法蚀刻、显影、剥离、清洗装置 将脱膜液喷淋到蚀刻后的产品表面， 脱膜液会将未被UV光照射的感光光阻PR溶解掉， 留下被保护的 ITO 部分， 从而形成线路 脱膜机