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Plasma工艺介绍 随着电子行业的不断发展,人们对电子产品的要求越来越高,从以前的重、厚、长,大,演变成今天的轻、薄、短、小。然而在此期间人们对设备的要求也越来越精密。故一些制程明显体现出它的优势。正如Plasma制程是线路板、半导体以及太阳能等行业不可缺少的设备之一 Plasma等离子处理应用行行业及工艺介绍 一。线路板行业。 二。BGA/Flip Chip行业。 三。LCD行业。 四。LED行业。 五。IC行业。 六。其他行业等。 一、多层柔性板除胶渣、软硬结合板除胶渣、FR-4 高厚径(纵横)比微孔除胶渣(Desmear)。 目的:提高孔壁与镀铜层结合力,彻底清除胶渣(smear);提高通孔连接可靠性,准确控制Etch back,提高孔镀的信赖性和良率,防止内层开路。 1、多层柔性板除胶渣:环氧树脂胶(EPOXY),亚克力胶(Acrylic)等各种胶系。相比化学药水除胶渣更稳定,更彻底,良率可提高20%以上。 2、软硬结合板除胶渣:除胶渣彻底,避免了高锰酸钾药水对软板PI的攻击,孔壁凹蚀均匀,提高孔镀的可靠性和良率。 3、高纵横比FR-4硬板微孔除胶渣、高TG硬板除胶渣:由于化学药水涨力因素导致用药水除胶渣时,药水无法渗透到微孔内部,使除胶渣不彻底,等离子可不受孔径大小限制,越小孔径优势逾突出。 二、PTFE(铁氟龙)高频微波板沉铜前的孔壁表面改性活化(Modification):提高孔壁与镀铜层结合力,杜绝出现沉铜后黑孔;消除孔铜和内层铜高温断裂爆孔等现象,提高可靠性。 涂覆阻焊前与丝印字符前 板面活化:有效防止阻焊字符脱落。 1、滴水实验(亲水性改变实验): 3、高频板处理效果图: 三、激光(Laser)加工后清除碳化物: 1、HDI板激光(Laser)之通孔、盲/埋孔去除激光(Laser)灼烧之碳化物。不受孔径大小之要求,孔径小于50微米之微孔效果更显著(Micro-via hole,IVH,BVH)。 2、柔性板激光(Laser)切割金手指后,边缘出现黑色碳化物,高压测试会产生微短路,等离子清洗后可将成型边缘之碳化物清除彻底,杜绝短路。 四、精细线条制作时去除干膜残余物。 五、表面粗化、活化,改变附着力结合力: 1、软硬结合板、多层高频板、多层混压板等 叠层压合前PI、PTFE等基材表面粗化:由于内层板面光滑,层压困难,表面油污或者指纹很容易导致层压后结合力不足,容易分层,等离子处理可把表面异物、氧化膜、指纹、油污等清除干净,而且可将表面凹蚀变粗糙,使结合力得到显著提高,一般可增大10倍以上。 2、柔性板补强前处理:贴合钢片、铝片、FR-4补强料等,等离子可使PI表面粗化:拉力值可增大10倍以上,杜绝出现补强材料脱落等现象。 六、化学沉金/电镀金前金手指、焊盘表面清洁:去除阻焊油墨等异物,提高密着性和信赖性,一些较大型柔性板厂已经采用等离子清洗取代传统磨板机。 七、化学沉金/电镀金后,SMT前焊盘表面、金手指表面清洁(Cleaning):可焊性改良,杜绝虚焊、上锡不良,提高强度和信赖性。 八、LCD领域:模组板 去除金手指氧化、去除保护膜压合过程中之溢胶等有机胶类污染物;LCD偏光片贴合前表面清洁。 九、PCB板BGA封装前表面清洗,打金线Wire&Die Bonding前处理,EMC封装前处理:提高布线/连线强度和信赖性 (去除阻焊油墨等残余物)。经等离子处理后,拉力测试时金丝被拉断,而焊盘与金丝焊接点也不会剥离。 十、IC半导体领域:半导体抛光晶片(Wafer):去除氧化膜,有机物;COB/COG/COF/ACF等工艺中微观污染物清洁,提高密着性和可靠性。 十一、LED领域:打线Wire前焊盘表面清洁,去除有机物污染,活化焊盘,使金丝与焊盘之结合力和附着力提高。 十二、其他行业的应用: 塑料、玻璃、陶瓷与聚丙烯、PTFE一样没有极性,因此这些材料在印刷油墨、粘合、涂覆前可以进行等离子处理。提高材料粘接强度以及油墨、涂层、镀层的附着力。 玻璃和陶瓷表面的轻微金属污染也可以用等离子方法清洁。 硅胶类按键、连接器,聚合体表面改质:提高印刷和涂层的信赖性。 太阳能半导体领域等离子刻蚀,光刻胶清洗,硅晶元的表面清洁,超细连线间的异物清洗等。 5、纤维纺织行业:生产电池无纺布隔膜、水处理用中空纤维膜及各种天然纤维、合成纤维经等离子处理可改善和提高其渗透性、亲水性、印染性等多种功能。 6、精密仪器、机械及电器制造领域: (1) 继电器触点氧化层去除,精密零件表面油污、助焊剂等清洗。 (2) 电子点火器线圈骨架灌封环氧树脂前处理提高其粘结性。 7、生物医用材料领域: (1) 聚苯乙烯酶标板经等离子接枝处理,引入醛基、氨基、环氧基等活性官
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