微电子纳米加工与测试技术重点实验室对外开放仪器设备.docVIP

微电子纳米加工与测试技术重点实验室对外开放仪器设备 序号 仪器名称 仪器型号 收费标准 简介 备注 工艺设备 1 磁控溅射台 SP- 开机费300元+500元/样品 现有靶材为Ta、 Cu 、Si，其它薄膜溅射自带靶材，最大可同时放入三片6寸圆片。溅射腔室可通入气体：Ar，N2，H2，O2，溅射速率0.1—0.25nm/S（视材质而定）。 30min内 2 等离子体浸没式离子注入机 PIII-100 开机300元+500元/样品 可用于半导体材料的P、N型注入，也可用于H、He、Ar的注入用于智能剥离SOI材料的研究 3 紫外光刻机 URE-2000/A 400元/小时 可曝光2’’-6”圆片， 套刻工艺加工，灯源采用1000W直流高压汞灯，曝光波长使用365nm。 30分钟/单元 4 匀胶机 KW 2寸或小于2寸片30元/片；4寸片80元/片；6寸片150元/片。 5 显影工艺加工（含热板） 100元/小时 光刻胶视情况收费，现有光刻胶种类S9920NX-H,S9912NX-H,KMPR1005，AZ4620，SU8 2100。显影液有SU8，FHD-5，AZ300 MIF,AZ400K。 30分钟/单元 6 可编程数字热板 Echo Therm 50元/小时 最高温度到300 30分钟/单元 7 快速退火炉 AW810M 160元/小时,O2工艺200元/小时，O2流量不得大于2.5L/min 30分钟/单元 8 硅片清洗机 SFQ-1508T 300/次 30min内 9 旋转冲洗甩干机 CXS-2200B 100/次 30min内 10 零件超声清洗机 100/次 功率2KW 30min内 测试仪器 11 原子力显微镜 Veeco Dimension D3100 AFM 开机费300元， 300元/点 可用来测量直径可达200毫米的半导体硅片、刻蚀掩膜、磁介质、CD/DVD、生物材料、光学材料和其它样品的表面特性。扫图最宽范围为90um*90um,最深台阶＜10um。Z轴精度可达0.1nm，XY精度可达1nm。 30min内 12 激光共焦显微镜 OPLYMPUS LEXT OSL 4000 开机第一个小时300元，往后每30分钟100元 它可获得分辨率高达0.12μm的表面显微图像获得样品表面的三维真实形态亚微米级的线宽,面积,体积,台阶,线与面粗糙度,透明膜厚，几何参数等测量数据。 30 13 台阶仪 P6 KLA-Tencor 50元/点 工业级设备，高精度，高重复性。 15min内 14 椭偏仪 UVISEL 2 法国HORIBA Scientific 开机费300元， 300元/点，对特殊样品收费另议 全自动化性能，专利光斑可视技术，高精度，8种微光斑尺寸，可测薄膜的厚度，光学参数等。 30min内 15 四探针电阻测试仪 CRESBOX 100元/样品 四探针法测量表面电阻，矩形最大可测156*156mm，圆片最大8inch 30min内 16 显微镜 奥林巴斯BX51 50元/小时 电脑实时显示成像，配有1.25倍物镜，最大可检查范围的直径为17.6mm 30分钟/单元 17 显微镜 奥林巴斯MX61 80元/小时 电脑实时显示成像，可测8inch。电动物镜转换器的切换速度比原来提高了20%。 UIS2物镜大幅度地提高了高倍率的偏心精度。配有1.25倍物镜，最大可检查范围的直径为20.8mm. 30分钟/单元 18 高精度电子天平 METTLER TOLEDO 50元/小时 19 同步热分析仪 STA449F3 德国NETZSCH 开机第一个小时500元，往后每30分钟100元 覆盖 -150 至 2000℃ 的宽广的温度范围。 可以快速而深入地对材料的热稳定性，分解行为，组分分析，相转变，熔融过程等进行表征。 30分钟/单元 20 太阳能电池IV测试仪 SOL3A Newport 200元/样品 最大可测矩形片156*156mm,圆片8inch，模仿太阳光照射下的IV曲线 30min内 21 光学轮廓仪 MICRO XAM1200 300元/样品 测量样品表面粗糙度，主要针对光滑表面，测量垂直分辨率是 0.1nm，最大纵深为 1um。测量表面台阶高度，的最大高度可达 5mm。 30min内 22 傅立叶红外光谱仪 VETEX 70V 德国布鲁克 300元/样 适用于液体、固体、金属材料表面镀膜等样品。它不仅可以检测样品的分子结构特征，还可对混合物中各组份进行定量分析，本仪器的测量范围为(7500～370) cm-1，常用波数范围(4000～400) cm-1【对应波长范围为(2.5～25)μm】。 30min内