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《《薄膜4》》.pdf
第四章 异质外延薄膜,
第四章 异质外延薄膜,
薄膜中的应力
薄膜中的应力
异质外延生长各种材料
异质外延生长各种材料 外延:有序地排列
In Ga As / InP
In Ga As / InP 不同材料之间的外延生长
x 1-x
x 1-x
Al Ga As / GaAs
Al Ga As / GaAs
x 1-x
x 1-x
外延生长的要求:晶格常数匹配
AlAs: 0.5661 nm
0.1%失配度
GaAs: 0.5654 nm
如果 晶格常数不同—— 晶格失配
如果 晶格常数不同—— 晶格失配
——失配位错(结构缺陷)
——失配位错(结构缺陷)
——应变、应力—— 晶型变化—— 能带结构变化
——应变、应力—— 晶型变化—— 能带结构变化
影响器件的性能、可靠性
2
2
主要内容
主要内容
1. 异质外延和应力起源
1. 异质外延和应力起源
2. 薄膜中的应力和应变的基本关系
2. 薄膜中的应力和应变的基本关系
3. 扩散蠕变弛豫
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4. 异质外延中应变能及其稳定性
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5. 失配位错的弹性能
5. 失配位错的弹性能
6. 临界厚度
6. 临界厚度
7. 应变测量
7. 应变测量
8. 应变超晶格
8. 应变超晶格
3
3
4.1 异质外延和应力起源
a a a : 衬底晶格常数 f2% 失配度
失配度 s f s
失配度 f af : 薄膜晶格常数 较小
a
s
Ga Al As on GaAs
x 1-x
ax=x aGaAs+ (1-x)aAlAs ,可以获得非常小的失配度
Ga In As on InP
x 1-x
异质外延制备 选择依据:
三元化合物 晶格常数相同:应力和缺陷角度
四元化合物
4
4
•常见的III=V 族,
II-VI族,IV族半导
体材料的能隙和晶
格常数关系。
•空心符号代表间接
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