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不同方法及衬底类型对CdS多晶薄膜性能的影响.pdf
第33卷第2期 红外与毫米波学报 V01．33，No．2
2014年4月 Millim．Waves April，2014
J．Infrared
文章编号：1001—9014(2014)02—0149—05
不同方法及衬底类型对CdS多晶薄膜性能的影响
丛家铭1， 潘永强1， 邬云华2， 张传军2…， 王善力24
(1．西安工业大学光电工程学院，陕西西安710032；
2．上海太阳能电池研究与发展中心，上海201201；
3．中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室，上海200083)
摘要：采用化学水浴法和磁控溅射法分别在AZO、FTO、ITO透明导电玻璃衬底上制备了CdS薄膜，利用扫描电镜、
XRD以及透射光谱等测试手段，研究了两种制备方法对不同衬底生长CdS薄膜形貌、结构和光学性能的影响．研究
结果表明，不同方法制备的CdS薄膜表面形貌均依赖于衬底的类型，水浴法制备的CdS薄膜晶粒度较大，表面相对
粗糙．不同方法制备的CdS薄膜均为立方相和六角相的混相结构，溅射法制备的多晶薄膜衍射峰清晰、尖锐，结晶
性较好．水浴法制备的CdS薄膜透过率整体低于溅射法，但在短波处优势明显．
关键词：CdS薄膜；磁控溅射；化学水浴；TCO
中图分类号：0484．4文献标识码：A
Effectofdifferentsubstratesonthe of thinfilm
CdS
properties
different
depositedby technique
CONG Shan．Li2+
Yun．Hua2，ZHANGChuan—Jun2…，WANG
Jia—Min91，PANYong．Qian91，WU
of 7
(1．Xi’anTechnologicalUniversity，SchoolOptoelectronics 10032，China；
Engineering，Xi’an
Centerfor
2．Shanghai Photovohaics，Shanghai201201，China；
3．National forInfrared InstituteofTechnical
Laboratory Physics，Shanghai Physics，
Chinese of
AcademySciences，Shanghai200083，China)
CdSthinfilmswere
Abstract：The on andAZOsubstratesRF
preparedITO，FTO
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