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过腐蚀自对准离子注入法制备SiGeHBT.pdf
第 卷增刊 半 导 体 学 报 *’ aD2*’ % D9196C ! ! ! ! ! GG 年 月 $ *++. ’ #8Q!%!M_e]Q$?_^%!=#_QNe#[_]% M69*++. 过腐蚀自对准离子注入法制备 # 6JQB5,0 姚 飞 成步文 薛春来 王启明 ! ! ! ! # $ % 中国科学院半导体研究所 集成光电子国家重点实验室 北京 ,+++-0 ! ’ . $ $ 摘要 用过腐蚀自对准离子注入工艺制备 异质结双极型晶体管 过腐蚀湿法腐蚀的横向钻蚀 为自对准离 %;X9%; 子注入提供了技术保障 $ $ 对外基区的离子注入既减小了外基区的串联电阻 又有利于欧姆接触的制备 提高了器件 2 的工艺成品率2 ’ ( ( ( 关键词 过腐蚀 自对准 离子注入 %;X98\[ ) ( ’’% *..+ *.’+M 中图分类号’ 文献标识码’$ 文章编号’ $ [Q0* +*.0J(,))*++.%+J+,,)J+( ! ! ! ! ! ! * + ,+ ,* #% % 选择外延工艺 (# 选择与非选择外延结合 0 ( * + ,0 $ $ 引言 的工艺 其中 台面的 工艺相对简单 ! 2
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