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液晶显示器技术及其曝光设备续.pdf
第 卷第 期 电子工业专用设备 年 月 3l 3 2002 9 Voi . 3l No . 3 Eguipment for Eiectronic Products Manufacturing September 2002 !综述 ! 液晶显示器技术及其曝光设备（续） 童志义，葛劢冲 （中国电子科技集团公司第四十五研究所，甘肃平凉 744000 ） 摘 要：介绍了LCD 器件类型和生产线概况及器件市场与发展现状，根据LCD 器件对曝光设备的 工艺特点，重点介绍了几种用于LCD 制造的曝光设备，结合LCD 器件目前的发展趋势，讨论了曝光 设备面临的新课题。 关键词： 器件； 市场； 生产线；发展趋势；曝光设备 LCD LCD LCD 中图分类号： 文献标识码： 文章编号： （ ） TNl4l.9 A l004 - 4507 2002 03 - 0l25 - 06 （ ） The Situation of LCD Technology and Exposure System Continued ， TONG Zhi-yi GE Mai-chong （ th ， ， ） The 45 Institute of CETC Pingiiang 744000 China ： ， Abstract This paper describes the market and the deveiopment situation the types and the fabs survey of ， LCD .According to the process characteristic of LCD production exposure system mainiy introducing severai kinds of exposure system used for LCD production . Combining the current deveioping trend of LCD， discuss the new probiem with which exposure system faced . ： ； ； ； ； Keywords LCD device LCD Market LCD Fabs Trend Exposure system 400 mm 增大到目前的第四代产品的 680 mm 5 LCD 器件对曝光设备的要求 880 mm，并进一步向
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