硼靶制备技术的研究.pdfVIP

　第33卷第4期 原 子 能 科 学 技 术 . 33, . 4 V o l N o 　1999年7月 A tom ic Energy Science and T echno logy Ju ly 1999 硼靶制备技术的研究 许国基 ( 中国原子能科学研究院核物理研究所, 北京, 102413) 魏永钦 ( 中国科学院上海原子核研究所, 上海, 200018) 介绍B 靶制备技术及其质量厚度测量方法。静电振动、高压电喷和离心沉淀主要用于制备有 衬B 靶, 而聚焦重离子束溅射和电子轰击可用来制备自支撑B 靶和有衬B 靶。B 靶的质量厚度用 分光光度法和称重法测量。 关键词　电子轰击　聚焦重离子束溅射　电喷　分光光度计 中图法分类号　 484 1 O B 靶是核物理、激光物理和其它科学实验中常用的靶膜之一。近年来, 根据不同实验的要 [ 1 ] [ 2 ] [ 3 ] 求, 已用静电振动、高压电喷 、离心沉淀 、聚焦重离子束溅射 和电子轰击等制靶技术研制 [ 4 ] [ 5 ] 成各种 靶, 其质量厚度分别用分光光度计 、 测厚仪 和天平测量。这些 靶制备技术和 B B 质量厚度测量方法各有长处和不足, 将它们联合起来, 就能满足各类研究工作的需要。 1　制备技术 11　静电振动法 [ 6 ] 静电振动法 是近年来采用的一种制靶新技术, 其基本原理是: 置于两平行电极间的金属 粉末由于静电感应而带电, 在静电场的作用下, 它们在电极间作上下振动并逐渐在那里沉积成 薄膜。静电振动法制备B 靶的工作条件: 电极间距为 15 mm , 工作电压为 14 kV , 衬底材料为 10 m 厚 Cu 箔。该法虽具有设备简单和操作方便等优点, 但只能制备质量厚度小于 140 2 的有衬 靶。 g cm B 12　高压电喷 高压电喷法制靶的基本过程是粉末材料的悬浮液在高电压的作用下, 通过一狭长的细管, 形成带电小液滴。在电场的作用下, 这些液滴喷射到导电的靶衬上, 形成均匀的膜层。高压电 喷法制备B 靶的工作条件如下: 极间距离为 4 cm , 工作电压为 8 kV , 聚焦电压为 500 V 。用该 许国基: 男, 57 岁, 核物理专业, 高级工程师 收稿日期: © 1994-2006 China Academic Journal Electronic Publishing House. All rights reserved. 358 原子能科学技术　　第33卷 法已为核物理实验制备了 300～ 800 2 的 衬 靶。 g cm C B 13　离心沉淀 离心沉淀法是 70 年代发展起来的制备粉末材料靶的有效方法。这种技术是将粉末材料的 悬浮液进行离心, 使靶材料与悬浮剂分开, 并沉积在靶衬上。离心沉淀法制备B 靶的过程和其 [ 2 ] 它靶的制备 类似。制作B 靶的悬浮剂是火棉胶乙醇溶