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AIGalnP超高亮度发光管P面欧姆接触的研究
李胜瑞张万生
电‘子工业部第十三研究所石家庄05005I
1.引言
随着可见光发光管(LED)应用领域的扩大,近年来人们对提高超高亮度LED的性能
越来越重视,要提高其发光强度,除改进外延材料和封装结构外,制作芯片的工艺技术
至关重要,而p面欧姆接触是其中的关键技术之一。它直接影响着器件正向电压的大
小,即光电转换效率的高低。p面欧姆接触电阻不仅要小。而且均匀性要好,对大屏幕
显示应用尤为重要。P面欧姆接触]二艺的重复性还必须满足大规模批量生产的要求。
验结果,结合大规模批跫生产的工艺重复性和均匀性的要求,对这些试验结果进行了讨
论。
2.P面欧姆接触的形成及检验
(1)形成:AIGalnP超高亮度发光管的P面顶层随着器件的不同结构由高掺杂的GaP、
GaAs或AIGaAs,b延生长而成,均属于隧道穿透型的欧姆接触。作为接触的金属与P面顶
层表商,通过合金化相互作用,在接触金属下面形成一个高掺杂的再生长层,由于载流
予耗尽层很薄,载流予以隧道效应在金属和顶层表面之问的势垒进行输送,从而形成欧
姆接触。用于AlOalnP超高亮度发光管P面欧姆接触的合金主要有以下金属元素组成:
‘
①掺杂金属:用于形成载流子的隧道穿透输运,一般采用Be、zn、等。
②覆盖金属:用于引线键合,一般采用Au、Ag等稀贵金属元素,考虑至可靠性,采
用Au较为普遍。
③黏附金属:用于增强金属与顶层表面的黏附性,使键合引线不易脱落,一般采用
Cr、Ni等。
(2)检验:
①定性检验;用二=探针测试两个P电极问的电阻,图示仪上的v.I特性曲线显现为一条
没有拐点的直线,此时则表明己形成良好的欧姆接触。如果V.1特性曲线的起始部位出
现拐点,则表明尚有势垒存在,没有形成合格的欧姆接触。在生产过程中一般只用这种
方法进行1=艺检验。
②定量检验j用四探针法测量欧姆接触电阻率。结果见表】,
3.试验结果
Au的成膜,采用电子束加热的真空镀膜方法。成膜后选择台适的合金条件,使顶层金属
化a最后蒸镀较厚的Au膜作为覆盖金属,用于键合引线,并试其牢度。采用Ni作为黏附
一30
第六届全国LED行业研讨会与学术会议论文集
金属。对不同合金系统的欧姆接触特性和键合引线牢度进行比较。
(2)结果:试验结果如表1所示。
表l不同台金系统的欧姆接触和键合引线牢度的比较
掺杂浓度 欧姆接触 欧姆接触 引线键合
P面顶层材料 合金系统 (cm-3) 特性 电阻率 牢度
(0-c1112)
AuZn{h ≥5×10” 好 6×10-5 好
GaAs AuBe/Au ≥5×1017 好 3X1旷6 不好
Ti/Pt/Au ≤1×109 不好 好
9×101
≥5×109 好 好
GaAIAsAuZn/Au ≥5×1017 好 7X10^‘ 好
AuZn/Au ≤l×1017 不好 好
6×i0-5
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