锗基底7～11．5μm高性能红外宽带减反射膜的研究.pdfVIP

维普资讯 应用光学 J．AppliedOptics ·63 · 文章编号：1002—2082(2005)O6—0063—03 锗基底7～11．5 m高性能红外 宽带减反射膜的研究 潘永强，朱 昌，杭凌侠 (西安工业学院 光电工程学院，陕西 西安 710032) 摘 要： 为了提高锗基底的透过率和膜层 的机械强度 ，对锗基底上高性能的红外宽带减反射膜 的设计与制备工 艺进行 了研究。介绍 了红外宽带减反射膜 的膜料选择、膜系设计 以及采用离子束辅助沉积该膜系的过程 。给出了 用该方法制备的7～11．5p．m波段宽带减反射膜的实测光谱 曲线 ，其峰值透过率高达 99．5％以上，在设计波段范 围内平均透过率大于97．5 ，膜层 附着性能好 ，光机性能稳定 。这对于红外光学系统的应用具有十分重要的意义 。 关键词 ： 红外减反射膜 ；离子束辅助沉积 ；锗基底 中图分类号：TN213-34 文献标识码：A Studyonhighperformanceinfraredwide—band (7～ 11．5um) antireflectiVefilm on germanium substrate PAN Yong—qiang，ZHU Chang，HANG Ling—xia (XianInstituteofTechnology，Xian 710032，China) Abstract：InordertOenhancethetransmissionofgermanium andmechanicalfeatureoftheantireflectivefilm ，thedesign andpreparationofthehigh performanceinfraredwide—bandantireflectivefilm depositedongermanium substrateby ion— beam assisteddepositionareinvestigated．Theselectionoffilm material，thedesignoffilm systemsandtheprocessofthe ion—beam assisteddepositionforthefilm systemsareintroduced．Themeasuredspectralcurvesoftheantireflectionfilm at 7～ 11．5 “m ，depositedbythismethod，aregiven．Theexperimentalresultsshow thatthepeaktransmissionofthefilm is morethan99．5 ，theaveragetransmissioninthedesignedwavelengthrangeisgreaterthan97．5 ，thefilm adherencyis good，theopticalandmechanicalpropertiesarestable．Thesearecriticalfortheapplicationofinfraredopticalsystems． Keywords：infraredantireflectivefilm ；ion—beam assisteddeposition(IBAD)；germanium substrate 引言 化钍具有放射性和一定 的毒性 ，许多国家 已禁止使 常用 的红外光学材料 (如硅、锗等)必须镀减反 用 引。 射膜来降低表面反射损失 ，同时，红外光学材料通 为了解决上述 问题 ，我们在传统热蒸发技术中 常由于使用环境恶劣，