近场光学显微技术的进展及其应用.pdfVIP

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27 1 电 子 显 微 学 报 Vol27, No1 2008 2 Journal of Chinese Electron Microscopy Society 200802 :2008) * 方哲宇, 刘 丹, 王 笑, 黄 姗, 朱 星 ( 北京大学物理学院人工微结构和介观物理国 重点实验室, 北京 100871) : 近场光学显微技术突破传统光学衍射极限获得了纳米尺度的空间分辨率, 并在近场光存储半导体材料 生命科学等交叉学科领域发挥了巨大的作用本文综述了近场光学显微技术的发展现状, 讨论了基于近场光学原 理的超分辨近场结构在现代光刻技术上的应用表面等离激元的共振增强作用和束流作用在近场光学领域的进展 以及表面增强拉曼散射机理的研究, 并介绍了近场光学显微技术在单分子检测和细胞探测等其它生命科学领域的 一些发展 : 扫描近场光学显微术; 超高分辨近场结构; 表面等离激元; 表面增强拉曼散射; 表面等离子晶体; 全内反射 荧光显微术 : TH742; TG11521 : A 1928 ynge , [1] , , , 20 80 , , [ 2] , ( scanning nearfield optical microscope, NOM) , , , ( scanning probe , microscope, PM) ,, PM , NOM XY , NOM , 1 ( atom force microscopy,AFM) , NOM , , , , 200 nm , , , ( 50 nm) , , [ 3] ~ 2 , ~ 2 z = 5 nm~ 20 nm : ( evanescent field) , , : : (N N . Foundation item: National Natural cience Foundation of China( No. No. . : ( 1983- ) , ( ) , , . * : ( 1950- ) , ( ) , , . Email: zhuxing@pku.edu. cn. J. Chin. Electr. Microsc. oc.

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