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致联-创造精密平面加工的先进技术
抛光耗材
抛光垫
Polishing Pad
ZCP系列胶体二氧化硅抛光液
化 致联所代理的抛光垫由国外知名的抛光垫厂 可以用于对半导体晶片、化
合物半导体晶片、精密光学
商制造,广泛应用于半导体晶片及光学镜片 晶片、陶瓷零件、金属零件
学 的粗抛、精抛加工;抛光垫表面可以根据客 的抛光加工.
户加工槽或条纹。
机
无蜡抛光模板 ZCP系列化学抛光液
ZCP Series Colloidal Silica Polishing Slurry
械 Polishing Template
型号 应用
抛 ZCP 8020 硅片/蓝宝石/ 碳化硅等晶片精抛加工
无蜡抛光模板在化学机械抛光制程中用于对 ZCP 8040 硅片/蓝宝石/ 碳化硅等晶片粗抛加工
晶片的固定;无蜡工艺在加工成本、生产效 ZCP 8080 蓝宝石/ 碳化硅等晶片粗抛加工
光 率都较有蜡工艺有更大的优势。致联公司所 ZOP 系列 锗/砷化镓/磷化铟/碲锌镉/碲镉汞
销售的无蜡模板可以根据客户陶瓷盘大小定
制；致联新型无蜡抛光模板采用高硬度不锈
钢作为模板框架,在蓝宝石晶片抛光应用的
竞争力超越其他厂家的树脂模板。
Lamplan的树脂铜盘产品用于搭配钻石
液对超硬工件进行抛光加工;树脂铜盘 MM系列复合研抛盘
内部含有均匀细致的微孔,有效存贮钻
石液;Lamplan的树脂铜盘使用时无需开 MM Series Lap-Pol plate
槽,提高了使用的便捷性,典型应用: 蓝
宝石晶片,碳化硅晶片,精密陶瓷,机械 MM 系列研抛盘是法国Lamplan的专利产品,研抛
密封件等抛光加工。 盘软硬区域的组合使得研磨和抛光的优点得以
提升;研抛工艺具有研磨效率高、工作环境清洁、
工件表面光洁度高、工件易于清洗、工件表面
Lamplan 树脂铜盘 无磨料嵌入等优点;适用于各种金属、陶瓷等材
质工件的研磨或抛光加工,广泛应用于核能发电、
Lamplan Resin-Copper Plate
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