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- | 2009-10-30 颁布
- | 2010-06-01 实施
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犐犆犛29.045 犎 80 中华人 民共和 国国家 标准 / — 犌犅犜14139 2009 代替 / — GBT14139 1993 硅 外 延 片 犛犻犾犻犮狅狀犲犻狋犪狓犻犪犾狑犪犳犲狉狊 狆 20091030发布 20100601实施 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 发 布 中 国 国 家 标 准 化 管 理 委 员 会 / — 犌犅犜14139 2009 前 言 本标准代替 / — 《硅外延片》。 GBT14139 1993 本标准与原标准相比,主要有如下变动: ———删除了引用标准 / 《硅外延层厚度测定 堆垛层错尺寸法》和 / 《硅片包装》; YST23 YST28 ———增加了引用标准 / 《硅外延层、扩展层和离子注入层薄层电阻的测定 直排四探针 GBT14141 法》和 / 《重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的红外反射测量方法》; GBT14847 ———修改了产品规格规范,去除原标准中 、 、 三个规格,增加了直径尺寸 50.8mm 80mm 90mm 和 ; 125mm 150mm ———在产品牌号中增加衬底掺杂内容; ———衬底掺杂元素中增加衬底掺杂元素磷(); P ———对外延层中心电阻率、径向电阻率和外延层厚度进行了修订,对其允许偏差进行加严; ———修改了外延层厚度测量方法,对外延片表面缺陷检测方法进行加严; ———修改了合格质量水平( )规定,增加了表面质量、位错等检验项目合格质量水平规定。 AQL 本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会提出。 本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会归口。 本标准起草单位:宁波立立电子股份有限公司。 本标准主要起草人:许峰、刘培东、李慎重、谌攀。 本标准所代替标准的历次版本发布情况为: ———
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