电沉积法制备ZnSe薄膜的工艺探索与结构表征分析.docx

电沉积法制备ZnSe薄膜的工艺探索与结构表征分析.docx

  1. 1、本文档内容版权归属内容提供方,所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议,可选择认领,认领后既往收益都归您。。
  2. 2、本文档由用户上传,本站不保证质量和数量令人满意,可能有诸多瑕疵,付费之前,请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形,可联系本站下载客服投诉处理。
  3. 3、文档侵权举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
查看更多

电沉积法制备ZnSe薄膜的工艺探索与结构表征分析

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代材料科学与光电子技术飞速发展的背景下,半导体薄膜材料因其独特的物理性质和广泛的应用前景,成为了科研领域的研究热点。ZnSe薄膜作为一种重要的II-VI族直接带隙半导体材料,具有2.7eV的宽带隙,以及高激子结合能、高折射率和高载流子迁移率等优异特性,在光电子领域展现出了不可替代的作用。

在光电器件方面,ZnSe薄膜对光电子吸收层具有较高的通过率,使其成为制备发光二极管(LED)、激光二极管(LD)等器件的理想材料。由ZnSe薄膜制成的蓝光LED,在照明领域具有节能、环保、寿命长等优

文档评论(0)

zhiliao + 关注
实名认证
内容提供者

该用户很懒,什么也没介绍

1亿VIP精品文档

相关文档