原子层沉积技术构筑氧化物光学薄膜的特性与调控机制研究.docxVIP

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2025-11-19 发布于上海
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原子层沉积技术构筑氧化物光学薄膜的特性与调控机制研究.docx

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原子层沉积技术构筑氧化物光学薄膜的特性与调控机制研究

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代光学领域，光学薄膜作为关键组成部分，对光学器件的性能起着决定性作用。随着科技的飞速发展，对光学薄膜的性能要求日益提高，如高折射率、低吸收、高稳定性等。原子层沉积（AtomicLayerDeposition，ALD）技术作为一种先进的薄膜制备技术，近年来在氧化物光学薄膜制备中展现出独特的优势和巨大的潜力，受到了广泛的关注。

原子层沉积技术起源于20世纪60年代，经过几十年的发展，已经成为一项成熟的制备薄膜技术。该技术通过交替进行一种气体分子的反应和清洗步骤，层层生长薄膜，能够实现高精度、高