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第二章 真空蒸发镀膜法 - 2012山东师范大学薄膜物理与技术课件_修显武.pptx

第二章 真空蒸发镀膜法 - 2012山东师范大学薄膜物理与技术课件_修显武.pptx

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    真空蒸发镀膜(简称真空蒸镀)是在真空室

    中，加热蒸发器中待形成薄膜的原材料，使其原

    子或分子从表面气化逸出，形成蒸气流，入射到衬底或基片表面，凝固形成固态薄膜的方法。

    又称为热蒸发法

    几十年的历史;

    主要内容

    2-1真空蒸发原理

    2-2蒸发源的蒸发特性及膜厚分布

    2-3蒸发源的类型

    2-4合金及化合物蒸发

    2-5膜厚和淀积速率的测量与监控;

    1.真空蒸发的特点与蒸发过程

    特点：

    设备比较简单、操作容易；

    薄膜纯度高、质量好，厚度可较准确控制；

    成膜速度快、效率高，采用掩模可以获得清晰

    的图形；

    薄膜生长机理比较单纯。

    缺点：不容易获得结晶结构的薄膜，薄膜附着力较小，工

    艺重复性

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