磁控溅射时间对4Cr13钢表面沉积钨组织及性能的影响.pdfVIP

《热加工工艺》2017年1月第46卷第2期

磁控溅射时间对4Cr13钢表面沉积钨

组织及性能的影响

彭凯，高原，宋沂泽，王成磊

(桂林电子科技大学材料科学与工程学院，广西桂林541004)

摘要：利用磁控溅射在4Cr13钢表面先沉积一层铜，再在铜上沉积一层金属钨。研究了磁控溅射时间对4Cr13钢

表面沉积钨组织及性能的影响．结果表明：沉积层厚度随溅射时间的增长呈非线性增加，20、3O、40、50min对应的沉积

层厚度分别为1、2、2．5、3m；沉积层与基体材料间具有良好的结合力，其中溅射时间为50min，试样结合力最高，达到

32N。

关键词：磁控溅射；钨；结合力；薄膜

DOI：10．14158／j．cnki．1001-3814．2017．02．O44

中图分类号：TG115；TG174．444文献标识码：A文章编号：1001-3814(2017)02—0155-03

EffectofMagnetronSputteringTimeonStructureandPropertiesofDeposition

WonSurfaceof4Cr13Steel

PENGKai，GAOYuan，SONGYize。ⅥANGChenglei

(SchoolofMaterialsScienceandEngineering，GuilniUniversityofElectronicTechnology,Guilin541004，Chnia)

Abstract：MetalWfilmwasdepositedonthesurfaceofiron-basedleadflameswhichhasbeendepositedmeatlCufilm

firstlybymagnertonsputteringtechnique．Theinfluencesofmagnetronsputteringtimeonthestructurenadpropertiesof

4Cr13steelsurfacedepositnigWwerestudied．Theresultsshowhtatwithhteincreaseofsputteringtime，htehticknessofhte

depositedlayernicreasesninon-lniear．Whenhtesputteringis20min，30min，40minnad50mni，htehticknessofhte

correspondingdepositedlayeris1m，2m，2．5pznnad3ixm，respectively．Thedepositedlayernadthesubstratematerial

haveagoodbondingforce．Whenhtesputteringtimeis50min，htebondnigofrceofhtesampleisthehighest，~achnig32N．

Keywords：magnertonsputtering；W：bondingforce；film

引线支架在LED产品中具有导电、散热、焊接体表面镀膜技术的一种旧。Cu—W复合材料兼具W熔

和支持晶片的多重效能。一般为铜表面镀银[1-2]。由于点高、密度高、热膨胀系数低、强度高和Cu导热导电

镀银后的支架成本高、银易剥落、存在污染等问题，性好、断裂韧度高的优点，广泛应用于大规模集成电

其使用受到限制。因此，研究兼具高效率、高导电、高路、大功率激光器和大功率微波器件。鉴于此，本

导热、良好焊接性、浸润性和塑封性，节能、环保的新文采用磁控溅射薄膜制备技术。在4Cr13钢上沉积

型引线支架成为当前的热点3[-5]。磁控溅射技术是基