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HotWorkingTechnology2020,Vol.49,No.20
磁控溅射-熔覆法制备铜/银接头的
组织与性能研究
董运涛^樊科社吴江涛\邹军涛2
(1.西部金属材料股份有限公司，陕西西安710065;2.西安理工大学材料科学与工程学院，陕西西安710048)
摘要：采用磁控溅射-熔覆法制备了铜/钼接头，并通过室温静态拉伸试验对其结合性能进行了测试。采用光学
显微镜观察了Cu/Mo结合界面附近的显微组织，并利用扫描电镜（配X射线能谱仪）分析了断口形貌及Cu/Mo界面附
近的Cu,Mo,Ni和Cr合金元素分布情况。结果表明，添加适量的Ni、Cr等合金元素可使结合界面形成4〜5(Jim的扩
散层，从而有利于铜和钼的连接。在5.0X10-3Pa真空度下，1200°C熔覆并保温60min，然后缓慢冷却，制得接头的抗拉
强度为156MPa。钼和铜均发生了再结晶，其中钼的平均晶粒尺寸约为20|xm,而铜的晶粒尺寸达数百微米。室温拉伸
条件下，接头由钼侧发生脆性断裂，断口特征由心部到边缘依次为解理断裂、混合（晶间+韧窝）断裂、剪切断裂。
关键词：铜/钼接头；磁控溅射-熔覆；组织；性能
DOI:10.14158/j.cnki.1001-3814.
中图分类号：TB331;TGI74.444文献标识码：A文章编号：1001-3814(2020)20-0072-03
ResearchonMicrostructureandPropertiesofCu/MoJointPrepared
byMagnetronSputteandCladdingMethod
DONGYuntao1,FANKeshe1,WUJiangtao1,ZOUJuntao2
(1.WesternMetalMaterialsCo.,Ltd.,Xian710065,China;2.SchoolofMaterialsScienceandEngineering,XianUniversity
ofTechnology,Xian710048,China)
AbstractCu/Mojointswerepreparedbymagnetronsputtering-fusioncladdingtechniqueandthebondingproperties：
weretestedbystatictensiletestatroomtemperature.ThemicrostructurenearthebondinginterfaceofCu/Mowasobservedby
opti
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