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新型抛光工艺技术优化探索

目录

内容综述．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．4

1.1研究背景与意义．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．5

1.2国内外研究现状．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．6

1.2.1国外研究进展．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．11

1.2.2国内研究概况．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．12

1.3研究目标与内容．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．14

1.4技术路线与研究方法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．16

抛光工艺基础理论．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．17

2.1抛光机理分析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．18

2.1.1材料去除机制．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．20

2.1.2表面形貌演化．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．21

2.2影响抛光效果的关键因素．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．24

2.2.1材料特性．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．25

2.2.2加工参数．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．27

2.2.3环境条件．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．35

2.3传统抛光方法及其局限性．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．37

2.3.1机械抛光技术．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．39

2.3.2化学抛光技术．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．40

2.3.3其他抛光方法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．44

新型抛光工艺探索．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．47

3.1激光辅助抛光技术．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．51

3.1.1激光抛光原理．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．52

3.1.2激光器类型与选择．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．53

3.1.3关键技术与工艺参数．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．56

3.2等离子体抛光技术．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．57

3.2.1等离子体抛光原理．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．59

3.2.2等离子体类型与特性．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．61

3.2.3工艺参数优化．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．62

3.3高分子辅助抛光技术．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．66

3.3.1高分子抛光原理．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．68

3.3.2高分子材料选择．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．69

3.3.3工艺流程与优化．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．71

3.4其他新型抛光技术．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．71

3.4.1磁场辅助抛光．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．76

3.4.2超声波辅助抛光．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．78

3.4.3其他创新方法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．79

新型抛光工艺优化方法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．80