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《电子工业纯水站设计规范》(初稿)2007.10

1.总则 2

2.术语 3

3.纯水站房 6

3.1.一般规定 6

3.2.设备布置 7

3.3.管道布置 8

4.纯水制备工艺 10

4.1.一般规定 10

4.2.预处理 12

4.3.脱盐及深度处理 15

4.4.精处理(抛光) 17

4.5.微粒、总有机碳、细菌、溶解氧和二氧化硅 17

4.6.水箱、水泵及管道 18

5.纯水输送 19

5.1.一般规定 19

5.2.管道设计 19

5.3.管材与附件 20

6.纯水回收和节水 21

6.1.一般规定 21

6.2.纯水回收 21

6.3.节水措施 2

7.药品贮存、计量和输送 2

7.1.一般规定 22

7.2.酸、碱及盐 23

8.控制及仪表 24

8.1.纯水制备过程测量与控制 24

8.2.纯水站监控系统设计选型 24

8.3.现场控制系统分区设计 25

8.4.集中监控系统设计 25

附录A水质全分析报告 27

附录B离子交换器设计参数 28

附录C电子级水质标准(ASTMD5127-1999) 30

本规范用词说明 31

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1.总则

1.0.1.为确保电子工业纯水站出水满足电子产品生产工艺要求，使设计做到技术先进，经济合理，安全适用，制定本规范。

1.0.2.本规范适用用于新建、扩建和改建的电子工业纯水站工程设计。

1.0.3.设计应贯彻执行国家的技术经济政策，合理选择水源，节约能源，节约水资源，节约用地，保护环境，改善劳动条件，提高经济效益。

1.0.4.水站设计应根据主体工程建设规划、生产特点等综合考虑，并经技术经济比较，择优确定设计方案，当主体工程为分期建设时，应按最终需用纯水容量(规模)全面规划、合理布局，考虑扩建条件。

1.0.5.设计应为施工安装，维护管理，检修、检(监)测和安全运行创造必要的条件。

1.0.6.改建、扩建设计，应合理利用、改造原有设施。

1.0.7.纯水回收和节水设施必须与纯水站统筹规划，同时设计、同时施工、同时投运。

1.0.8.纯水站排放的废水，应经处理达到国家和地方排放标准后排放。

1.0.9.电子工业纯水站工程设计，除应执行本规范的规定外，尚应符合国家现行的有关标准、规范的规定。

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2.术语

2.0.1.电子工业纯水purewaterforelectronicalindustry

电子工业生产所需的纯化水的通称。随着电子器件从电子管、半导体、集成电路直至超大规模集成电路的发展，制造工艺过程用水的水质不断提高，水质指标主要为电解质(通常以电阻率表征)的也可称为脱盐水(去离子水);水质指标不但有电解质(通常以电阻率和对某些离子含量指标共同表征)而且有非电解质(微粒、有机物、细菌、溶解氧和二氧化硅等)指标的可称为电子级纯水。随着电子器件不断微细化，水质指标不断提高又有高纯水、超纯水(UPW)之称。

2.0.2.软化水softwater

除掉部分或全部钙、镁离子后的水

2.0.3.淤塞指数(SDI)siltdensityindex

又称污染指数FI(foulingindex),是保证反渗透正常运行的进水水质重要指标。它通过被测水样对0.45μm的淤塞程度间接表征造成反渗透膜面堵塞的水中微量悬浮物、胶体的含量。

2.0.4.纯水站的产品水productwaterofUPWstation

主要指最终的纯水，也可包括制备过程中产生的软化水、初级纯水和纯水等

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2.0.5.微孔过滤(MF)microfiltration

一种主要用于截留较大微粒的膜分离技术，膜的微孔孔径大于0.1

μm。

2.0.6.超滤(UF)ultrafiltration

一种主要用于截留大分子有机物和胶体的膜分离技术，膜的微孔孔径小于0.1μm