电子束与深紫外光学曝光技术制备悬空掩膜的工艺研究：原理、优化与应用.docx

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2025-10-15 发布于上海
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电子束与深紫外光学曝光技术制备悬空掩膜的工艺研究：原理、优化与应用

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代科技发展的浪潮中，微纳加工技术作为支撑众多前沿领域发展的关键基础，其重要性日益凸显。从集成电路制造到微机电系统（MEMS），从生物医学传感器到纳米光学器件，微纳加工技术的进步为这些领域带来了革命性的变化，推动了产品性能的提升和功能的创新。而悬空掩膜作为微纳加工技术中一种至关重要的技术手段，犹如精密的模具，为微纳结构和微纳器件的制备提供了精确的图案转移模板，其质量和性能直接影响着微纳加工的精度、效率以及最终产品的性能。

随着信息技术的飞速发展，对集成电路的性能和集成度提出了越来越高的要求。