大面积高精度匀胶铬版技术开发与应用总结.pdfVIP

大面积高精度磁控溅射匀胶铬版技术总结报告

一、研制依据

1、市场需求

近年来国内LCD产业迅速发展，用菲林作为光掩模版已不能满足生产需

求，必须寻找一种比菲林掩模精度更高、稳定性更好、使用更长、更适

用于大规模生产使用的光掩模。也即是大面积高精度光刻掩膜版。

2、技术储备：

美精微是1993年成立的菲林掩模专业厂家，在多年的研发生产过程中，

掌握了CAD/CAM技术及菲林掩模、铬版制作等生产工艺。同时，本公司培养

了一批设计、安装和工艺方面的技术骨干，形成了较强的研究、开发和生产

的技术队伍。

结合以上情况，美精微公司于1998年设计产品生产思路如下：

CAD/CAM——菲林——拷贝铬版

镀制铬版

CAD/CAM——激光直写光刻——光刻铬版

3、国内外现状

拷贝铬版和光刻铬版制作都须以光刻掩模版版材——即“大面积高精度

匀胶铬版”为原料。目前世界范围内，大面积高精度匀胶铬版项目产品的技

术、生产主要由2家公司控制（Ulcoat和CleanSurface）。他们是中

国大陆Cr版掩模版生产企业（美精微、清溢）以及、、新加波和

、欧洲等厂家的唯一供应，其生产周期长（2个月左右）并价格昂

贵（USD500USD1200/片）。

在国内，因为进行这个项目的研制生产投资大、周期长、技术要求高，

配套设备都须从国外引进，因此，很少有企业能涉足这一领域。同时，抛

光、检验、镀膜技术一直是众多生产厂家的瓶颈。因此大面积光刻铬版原

材料生产——匀胶铬版的制造尚处于萌芽阶段。

综合上述，于1998年初，美精微一致决定：借助自已的研发

力量率先运用磁控溅射的技术，组建匀胶铬版制造用镀膜生产线，开发出自

己的高精度光刻铬版掩模版的原材料——大面积高精度匀胶铬版。用以打破

国际市场的，替代进口，自产自用同时用于对外销售，为光刻铬版原材

料贡献一份力量，为国内平板显示器专业制版厂家造福。

从1998年初——2002年8月份，经过近4年的研究开发，美精微公司

已掌握成套工艺，有中试生产线，已稳定生产小批量产品。且良品率达

70%。

国内研制情况：

公司名称生产产品尺寸成膜条件研发状态

主要致国于IC生产用的小

长沙韶光微电小尺寸铬版生产，也有少量大尺寸铬

光刻铬版版材热蒸发

子总公司IC用版生产，但未形成大铬版

生产线及成套工艺

福州光学研究

光刻铬版版材小尺寸热蒸发研究室小批量研制

所

掌握成套工艺，有中试生

美精微光刻铬版版材大尺