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摘要
ArF光刻胶行业作为半导体制造领域的重要组成部分,近年来随着全球半导体产业的快速发展而备受关注。以下是对该行业的市场全景分析及前景机遇研判:
行业背景与技术特点
ArF光刻胶主要应用于193nm波长的光刻工艺,是生产28nm及以下制程芯片的关键材料之一。由于其高分辨率和低缺陷率的特点,ArF光刻胶在先进制程节点中具有不可替代的地位。全球范围内对高端半导体产品的需求持续增长,推动了ArF光刻胶市场的扩张。
市场规模与增长趋势
根据公开数2022年全球ArF光刻胶市场规模约为15亿美元,预计到2028年将达到约25亿美元,年复合增长率(CAGR)约为8.5%。这一增长主要得益于以下
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