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钙钛矿型功能薄膜与硅基集成:制备工艺、性能及应用前景探究
一、引言
1.1研究背景与意义
随着全球能源需求的不断增长以及对环境保护的日益重视,开发高效、可持续的能源转换与存储技术成为了当今社会的迫切需求。在众多新兴材料中,钙钛矿型功能薄膜因其独特的晶体结构和优异的光电、铁电、催化等性能,在能源、电子、传感器等领域展现出了巨大的应用潜力,成为了材料科学领域的研究热点之一。
在能源领域,钙钛矿型功能薄膜在太阳能电池方面的应用尤为突出。钙钛矿太阳能电池具有较高的光电转换效率,其理论效率可达到30%以上,且制备工艺相对简单、成本较低,被认为是最有潜力替代传统硅基太阳能电池的新一代光伏技术。此外,钙钛矿型功能薄膜还可用于制备发光二极管(LED)、光电探测器等光电器件,在照明、显示、光通信等领域具有广阔的应用前景。在电子领域,钙钛矿型功能薄膜的铁电、压电性能使其在存储器、传感器、驱动器等方面具有潜在的应用价值。例如,基于钙钛矿铁电薄膜的非易失性存储器,具有高速读写、低功耗、高密度存储等优点,有望成为下一代存储技术的重要候选者。
然而,钙钛矿型功能薄膜在实际应用中仍面临一些挑战。其中,如何实现钙钛矿型功能薄膜与现有硅基半导体工艺的集成是一个关键问题。硅基半导体技术经过多年的发展,已经形成了成熟的产业链和工艺体系,具有高性能、高可靠性、低成本等优势。将钙钛矿型功能薄膜与硅基集成,不仅可以充分发挥钙钛矿材料的优异性能,还可以借助硅基半导体工艺的优势,实现高性能、低成本的光电器件和集成电路的制备,从而推动相关产业的发展。例如,在光伏领域,钙钛矿/硅叠层太阳能电池结合了钙钛矿电池的高光电转换效率和硅基电池的高稳定性,有望实现更高的光电转换效率和更低的成本,为太阳能的大规模应用提供新的解决方案。在电子领域,钙钛矿型功能薄膜与硅基集成可实现新型的多功能器件,如具有光电探测和信号处理功能的集成芯片,将为物联网、人工智能等新兴领域的发展提供技术支持。
因此,开展钙钛矿型功能薄膜硅基集成与性能研究具有重要的理论意义和实际应用价值。通过深入研究钙钛矿型功能薄膜的制备工艺、与硅基的集成技术以及集成后的性能,不仅可以为解决钙钛矿型功能薄膜在实际应用中的问题提供理论依据和技术支持,还可以为推动能源、电子等相关产业的发展做出贡献。
1.2国内外研究现状
近年来,国内外在钙钛矿型功能薄膜硅基集成方面开展了大量的研究工作,并取得了一系列重要成果。在制备工艺方面,研究人员探索了多种方法来制备高质量的钙钛矿型功能薄膜并实现其与硅基的集成。溶液法是实验室制备钙钛矿薄膜常用的方法,包括一步旋涂法、两步旋涂法、反溶剂法和水热法等。一步旋涂法将金属卤化物和有机铵盐按比例混合于有机溶剂形成前驱体溶液,直接滴加到基底表面旋涂后热处理成膜,工艺虽简单,但对成膜过程要求高,薄膜质量一般。两步旋涂法先制备前驱膜,再旋涂有机盐溶液反应成膜,能获得更好形貌和质量的薄膜。反溶剂法通过在旋涂过程中滴加反溶剂,促进钙钛矿晶体的快速生长和结晶,从而制备出高质量的钙钛矿薄膜。水热法在高温高压的水溶液中进行反应,可制备出具有特定形貌和结构的钙钛矿薄膜。气相沉积法如物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD)能够制备高质量的钙钛矿薄膜,但设备投资和能耗较高。在大面积制备法方面,丝网印刷法、刮刀涂布法、喷涂法和狭缝涂布法等已被用于制备大面积钙钛矿薄膜,虽已满足产业化生产基本要求,但在提升光电转换效率和优化制备技术方面仍有待深入研究。深圳黑晶光电技术取得了“一种在硅基片上制备钙钛矿薄膜的方法”的专利,为钙钛矿薄膜与硅基集成的制备工艺提供了新的技术思路。
在性能研究方面,众多研究聚焦于钙钛矿型功能薄膜硅基集成后的光电、铁电等性能。在光电性能上,研究如何提高钙钛矿/硅叠层太阳能电池的光电转换效率和稳定性是重点。通过优化钙钛矿薄膜的晶体结构、减少缺陷密度、改善界面接触等手段,可有效提升电池的性能。一些研究通过在钙钛矿层与硅基之间引入缓冲层或界面修饰层,来改善界面兼容性和电荷传输特性,从而提高电池的效率和稳定性。在铁电性能方面,研究人员关注基于钙钛矿铁电薄膜的硅基集成器件的铁电性能和应用潜力。南京大学现代工程与应用科学学院聂越峰教授课题组利用钙钛矿氧化物自支撑铁电薄膜,在硅基片上集成了高密度铁电畴壁,并实现了畴壁导电性的人工擦写调控,展示了氧化物铁电畴壁在硅基非易失性存储器方面的应用潜力。
尽管国内外在钙钛矿型功能薄膜硅基集成方面取得了一定成果,但仍存在一些不足之处。一方面,制备工艺的稳定性和重复性有待进一步提高,以满足大规模工业化生产的需求。目前,一些制备方法对实验条件要求苛刻,工艺参数的微小变化可能导致薄膜性能的较大波动,这限制了其在实际生产中的应用。另一方面,钙钛矿型功能薄膜与硅基集成后的长
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