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光刻机系国产算力的核心环节,其国产化进程正迎来加速度。光刻机是半导体制造过程中最为关键的设备之一,其单台
价值量高达上亿美元,其购置成本达到半导体设备总投资的20%以上,是芯片制造前道工艺七大设备之首。光刻机决定
了芯片晶体管尺寸的大小,从而直接影响芯片性能和功耗。而光刻机之复杂程度堪称人类科技之巅。一方面,光刻机制
造集成了精密光学、精密运动学、高精度微环境控制、高精度测控等多学科全球最顶尖工程师和科学家的智慧。另一方
面,光刻机背后的光源系统、光学镜头系统、精密运动和环境控制系统、测量系统等子系统的技术迭代成果均蕴含了该
领域最前沿的高精尖技术。当前,随
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