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深入解读:2025年3nm以下GAAFET工艺技术突破与产业应用拓展模板范文
一、深入解读:2025年3nm以下GAAFET工艺技术突破与产业应用拓展
1.1技术背景
1.2技术突破
1.2.1晶体管结构优化
1.2.2材料创新
1.2.3工艺创新
1.3产业应用拓展
1.3.1高性能计算
1.3.2移动设备
1.3.3人工智能
1.3.4物联网
1.4技术挑战与未来展望
1.4.1成本高昂
1.4.2良率问题
二、GAAFET工艺技术对半导体产业的影响与挑战
2.1技术进步对半导体产业链的推动
2.2GAAFET工艺在高端应用领域的拓展
2.3GAAFET工艺
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