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2025年3nm以下GAAFET工艺技术发展趋势与应用案例分析模板范文
一、2025年3nm以下GAAFET工艺技术发展趋势与应用案例分析
1.技术发展趋势
1.1晶体管结构优化
1.2材料创新
1.3光刻技术升级
1.4三维集成技术
2.应用案例分析
2.1高性能计算
2.2移动通信
2.3物联网
2.4人工智能
二、3nm以下GAAFET工艺技术挑战与应对策略
2.1材料挑战与突破
2.1.1晶体管材料
2.1.2介电材料
2.2光刻技术挑战与突破
2.2.1分辨率限制
2.2.2
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