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半导体工艺之光刻刻蚀演示文稿
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优选半导体工艺之光刻刻蚀ppt
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3.1概述光刻
刻蚀
刻蚀
物理气相淀积
镀膜化学气相淀积
氧化
半导体制作工艺
扩散掺杂
掺杂
离子注入掺杂
线焊
封装倒装焊
TSV
第3页，共125页。
生活的中类半导体工艺
掩膜+腐蚀掩膜+光照溅射+电镀
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光刻中….
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微纳器件需要怎样的加工环境？
50um100um0.01um-5um
粉尘：1-100um
灰尘：2-100um
雾霾：10um
什么是PM2.5？
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超净间的组成及注意事项
更衣间风淋室工作间1工作间2传递仓
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超净服的穿戴
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◆工作服穿戴步骤及注意事项
第一步：戴上口罩；
注意事项：
◆穿戴前把头发扎好，衣
服整理好；
◆戴口罩时可以露出鼻子
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戴口罩时可以露
出鼻子
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