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深度解读2025年3nmGAAFET工艺在人工智能芯片的研发趋势参考模板
一、深度解读2025年3nmGAAFET工艺在人工智能芯片的研发趋势
1.工艺特点
1.1晶体管密度提升
1.2功耗降低
1.3可靠性增强
1.4兼容性良好
2.技术优势
2.1高性能计算
2.2深度学习
2.3边缘计算
2.4智能传感器
3.应用领域
4.挑战
二、3nmGAAFET工艺的技术挑战与解决方案
2.1晶体管漏电问题
2.2光刻技术难题
2.3热管理问题
2.4可靠性问题
2.5工艺集成问题
三、3nmGAAFET工艺在人工智能芯片中的应用案例
3.1神经网络加速器
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