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均匀化处理对时效强化的作用研究

目录

均匀化处理对时效强化的作用研究（1）．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．4

文档概述．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．4

1.1研究背景与意义．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．6

1.2文献综述．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．9

1.2.1均匀化处理的理论基础．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．12

1.2.2时效强化的现象解析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．14

1.2.3前人研究成果综述．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．17

1.3研究目的与假设．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．19

1.4研究方法与数据介绍．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．20

均匀化处理原理与工艺流程解析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．22

2.1均匀化处理概述．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．25

2.2均匀化处理的作用机理分析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．27

2.2.1成分均衡原理．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．29

2.2.2晶格重构与缺陷减少机制．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．32

2.3常见均匀化处理方法介绍．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．33

2.3.1热处理均匀化．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．35

2.3.2机械均匀化．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．37

2.3.3电化学均匀化．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．39

实验设计及材料制备．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．42

3.1实验材料选取与处理方法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．44

3.2实验参数设置与控制．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．47

3.3实验步骤说明．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．48

3.4数据采集与处理方案．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．51

实验数据与结果分析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．53

4.1时效增强效果的测定方法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．56

4.2数据整理与分析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．58

4.2.1均匀化处理前后材料的微观结构变化．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．59

4.2.2材料力学性能变化．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．61

4.3结果讨论与问题分析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．62

4.4高峰期与过时效现象解析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．64

结论与展望．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．67

5.1研究总结．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．69

5.2均匀化处理对其时效强化的具体作用分析．．．．．．．．．．．．．．．．．．71

5.3研究局限性与未来研究方向．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．73

均匀化处理对时效强化的作用研究（2）．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．75

文档概述．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．75

1.1研究背景与意义．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．76

1.2国内外研究现状．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．77

1.3研究目标与内容．．．．．．．．．．．．