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3nmGAAFET工艺在人工智能芯片中的应用进展及市场前景报告模板范文
一、3nmGAAFET工艺概述
1.13nmGAAFET工艺的定义与特点
1.23nmGAAFET工艺的技术创新
1.2.1环绕栅极设计
1.2.2纳米级沟道长度
1.2.3新型材料应用
1.33nmGAAFET工艺在人工智能芯片中的应用
1.43nmGAAFET工艺的市场前景
二、3nmGAAFET工艺在人工智能芯片中的应用案例分析
2.1案例一:英伟达(NVIDIA)的Turing架构
2.1.1图形处理单元(GPU)
2.1.2光线追踪技术
2.1.3能耗优化
2.2案例二:谷歌(
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