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真空科学与技术学报第44卷
第11期
1000CHINESE
JOURNAL
OF
VACUUM
SCIENCE
AND
TECHNOLOGY2024
年
11
月
溅射镀膜单体机真空系统设计及性能分析
11*221
许泽宇胡明刘杰顾子莺赵德明
(1.
浙江理工大学
杭州
310000；2.
杭纳半导体装备(杭州)有限公司
杭州
310000)
SputterCoatingUnitVacuumSystemDesignand
PumpingPerformancePrediction
11*221
XU
Zeyu，HU
Ming，LIU
Jie，GU
Ziying，ZHAO
Deming
(1.
ZhejiangSci-TechUniversity,Hangzhou310000,China;
2.
HangnaSemiconductorEquipment(Hangzhou)Co.,Ltd.,Hangzhou310000,China)
AbstractIn
order
to
make
the
ultimate
vacuum
of
the
sputter
coating
unit
reach
5104Pa
and
improve
its
evacuation
efficiency,
a
new
design
of
the
vacuum
system
of
the
sputter
coating
unit
is
proposed.
Based
on
the
MOLFLOW+
software,
the
ultimate
vacuum
of
the
designed
vacuum
system
is
verified,
which
is
better
than27104Pa.
A
pumping
calculation
model
of
the
vacuum
system
of
the
sputter
coating
unit
is
established,
and
the
pumping
curves
are
obtained
by
solving
the
model
and
comparing
the
results
with
those
of
the
real
machine
test,
which
show
that
the
deviation
of
the
pumping
curves
obtained
by
the
model
from
the
experimental
test
values
is
less
than
5%,
which
can
be
used
for
the
performance
analysis
of
the
high-vacuum
system.
KeywordsMagnetron
sputtering，Vacuum
system，Pumping
performance，Evacuation
curves
摘要为了使溅射镀膜单体机的极限真空度达到5
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