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光刻工艺在纳米尺度下的对准技术考核试卷.docx

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    光刻工艺在纳米尺度下的对准技术考核试卷

    考生姓名：答题日期：得分：判卷人：

    本次考核旨在评估考生对光刻工艺在纳米尺度下对准技术的理解与掌握程度，包括对准原理、对准方法、对准精度等方面的知识。

    一、单项选择题（本题共30小题，每小题0.5分，共15分，在每小题给出的四个选项中，只有一项是符合题目要求的）

    1.光刻工艺中，对准技术的主要目的是什么？

    A.提高光刻分辨率

    B.减少光刻缺陷

    C.提高光刻速度

    D.降低光刻成本

    2.纳米尺度下的对准精度通常达到多少？

    A.10nm

    B.100nm

    C.1nm

    D.0.1nm

    3.在光刻

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