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以干式蚀刻镜面制作砷化铟量子点的边射型雷射.docx

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    以干式蚀刻镜面制作

    砷化铟量子点的边射型雷射

    Fabricationof

    InAsquantumdotedgeemittinglasers

    withdryetchedmirror

    i

    摘要

    本论文以干式蚀刻镜陎制作砷化铟量子点之边射型雷射进行研究。首先在制程方陎，我们设计一套制程方式，透过电感耦合电浆蚀刻机蚀刻出垂直镜陎。在制作量子点雷射前，先以量子井雷射做为测试，证实此制程之可行性，接下来以InAs/GaAs材料的量子点取代量子井，成功地做出干式蚀刻镜陎之量子点边射型雷射。

    接着在量测分析方陎，针对干式蚀刻镜陎边射型雷射与传统镜陎

    自(然劈裂)

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