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干涉面形绝对检测不确定度评估方法的深度剖析与创新应用
一、引言
1.1研究背景与意义
在现代光学领域，高精度的光学元件是构建高性能光学系统的基石。从先进的天文望远镜，助力人类探索浩瀚宇宙的奥秘；到高端的光刻机，为半导体芯片制造带来不断的突破；再到精密的医学成像设备，为疾病的精准诊断提供关键支持，光学系统在诸多前沿领域发挥着无可替代的作用。而这些光学系统的卓越性能，高度依赖于光学元件的面形精度。例如，在投影光刻物镜中，其光学元件面形质量要求已达到均方根值（rms）纳米甚至亚纳米级别，这对干涉面形检测技术提出了极为严苛的挑战。
传统的面形检测手段，在面对如此高要求的现代高端光学元件研制时，逐渐
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