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半导体设备研发技术路线图：2025年应用前瞻.docx

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    半导体设备研发技术路线图：2025年应用前瞻范文参考

    一、半导体设备研发技术路线图：2025年应用前瞻

    1.1技术发展背景

    1.2技术路线图

    1.2.1光刻技术

    1.2.1.1极紫外光（EUV）光刻技术

    1.2.1.2纳米级光刻技术

    1.2.2刻蚀技术

    1.2.2.1等离子体刻蚀技术

    1.2.2.2深硅刻蚀技术

    1.2.3化学气相沉积（CVD）技术

    1.2.3.1原子层沉积（ALD）技术

    1.2.3.2CVD设备国产化

    1.2.4离子注入技术

    1.2.4.1离子注入机性能提升

    1.2.4.2离子注入工艺优化

    1.32025年应用前瞻

    1.3.15G通信

    1.3.

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