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氧化镓低温MOCVD生长及日盲探测器性能研究
目录
氧化镓低温MOCVD生长及日盲探测器性能研究（1）．．．．．．．．．．．．．．．4
文档概览．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．4
1.1研究背景与意义．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．5
1.2研究内容与方法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．6
1.3文献综述．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．7
氧化镓材料基础．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．9
2.1氧化镓的结构与性质．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．10
2.2氧化镓的掺杂与控制．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．11
2.3氧化镓的制备与提纯技术．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．13
低温MOCVD生长技术．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．14
3.1MOCVD技术简介．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．16
3.2低温MOCVD的生长机理．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．18
3.3氧化镓在低温MOCVD中的生长特性．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．20
3.4生长过程中的关键技术问题．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．21
日盲探测器原理与设计．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．22
4.1日盲探测器的基本原理．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．23
4.2探测器的结构设计．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．25
4.3探测器的性能参数要求．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．28
氧化镓低温MOCVD生长与日盲探测器性能关系研究．．．．．．．．．．．．29
5.1生长条件对器件性能的影响．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．30
5.2MOCVD生长的氧化镓薄膜质量分析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．32
5.3日盲探测器的性能测试与优化．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．33
实验结果与分析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．34
6.1实验设备与方法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．37
6.2实验结果展示．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．39
6.3结果分析及讨论．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．40
总结与展望．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．41
7.1研究成果总结．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．42
7.2存在问题与挑战．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．43
7.3未来研究方向与应用前景．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．46
氧化镓低温MOCVD生长及日盲探测器性能研究（2）．．．．．．．．．．．．．．47
一、内容概述．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．47
研究背景及意义．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．48
1.1氧化镓材料特性与应用概述．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．49
1.2日盲探测器的重要性．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．50
1.3研究目的与意义．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．52
氧化镓低温MOCVD生长技术．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．54
2.1MOCVD生长原理及特点．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．55
2.2低温生长技术要点．．．．．．．．．．．．．．．
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