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光刻机行业深度报告（一）：核心部件篇，曙光已现.pptxVIP

光刻机行业深度报告（一）：核心部件篇，曙光已现.pptx

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    光刻机行业深度报告（一）：核心部件篇，曙光已现

    评级：推荐(首次覆盖);

    相关报告;

    688010;

    核心提要

    本篇报告解决了以下核心问题：1、光刻机核心部件的主要类型、基本原理、市场空间，EUV光刻机核心部件的差异性；2、ASML的产业协作模式、核心部件主要供应商；3、光刻机国产化历程、现状，核心部件及加工设备标的推荐。

    u投资逻辑

    光刻机是芯片制程核心设备。光刻工艺直接决定芯片制造的细微化水平，光刻机的关键指标是分辨率、焦深、套刻精度和产率，其中，分辨率提升方式包括缩短曝光波长、增大数值孔径、降低工艺因子以及多重曝光，增加焦深能

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