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平面干涉仪参考面高精度标定方法:原理、技术与实践探索
一、绪论
1.1研究背景与意义
在现代光学测量领域,平面干涉仪作为一种高精度的测量仪器,占据着举足轻重的地位。它基于光波干涉原理,通过分析干涉条纹的变化来获取被测量物体的相关信息,如表面形貌、波像差等。凭借其非接触、高灵敏度和高精度的特点,平面干涉仪在光学元件制造、光学系统检测以及精密机械加工等诸多领域得到了广泛应用。
在光学元件制造中,对于高精度平面光学元件,如平面镜、棱镜等,其表面面形精度直接影响到光学系统的成像质量和性能。利用平面干涉仪可以精确测量这些光学元件的表面面形误差,从而指导加工过程,确保元件达到设计要求。在光学系统检测方
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