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口腔内科学模拟练习题及答案

一、单选题

1.龋病的定义是

A.牙齿在多种因素的影响下，其组织发生的一种慢性进行性破坏性疾病

B.牙齿在多种生物因素的共同作用下，其组织发生的一种慢性进行性破坏性疾病

C.牙齿在以细菌为主的多种因素的影响下，其硬组织发生的一种慢性进行性破坏性疾病

D.牙齿在以病毒为主的多种因素的影响下，其硬组织发生的一种慢性进行性破坏性疾病

E.以上都不对

答案：C

解析：龋病是在以细菌为主的多种因素作用下，牙齿硬组织发生的慢性、进行性破坏的一种疾病。选项A未明确多种因素中细菌的主导作用；选项B生物因素表述不准确；选项D病毒不是龋病的主要致病因素。所以本题选C。

2.浅龋与轻度釉质发育不全的鉴别要点，除外

A.好发牙位不同

B.好发部位不同

C.患区质地不同

D.患区光滑度不同

E.患牙牙体形态不同

答案：E

解析：浅龋和轻度釉质发育不全均可表现为白垩色斑块，但浅龋好发于磨牙窝沟、邻面等，质地变软，表面粗糙；轻度釉质发育不全可发生于全口牙或成组牙，患区质地硬而光滑。二者在好发牙位、好发部位、患区质地、患区光滑度上有差异，但牙体形态一般无明显不同。所以本题选E。

3.中龋的临床表现为

A.遭受外界的物理化学刺激无明显反应

B.龋洞形成，酸甜冷热刺激痛，刺激去除后症状立即消失

C.龋洞形成，冷热刺激痛、自发痛

D.龋洞形成，冷热刺激、放射痛

E.龋洞形成，食物嵌入痛、夜间痛

答案：B

解析：中龋时龋病进展到牙本质浅层，龋洞形成，患者对酸甜、冷热刺激敏感，刺激去除后症状立即消失。选项A是浅龋的表现；选项C、D、E中自发痛、放射痛、夜间痛等是深龋接近牙髓或牙髓炎的表现。所以本题选B。

4.深龋的临床表现，描述有误的是

A.龋损已至牙本质深层

B.大多数有冷热激发痛

C.对甜酸食物较为敏感

D.偶尔也会出现自发痛

E.食物嵌入洞内疼痛加剧

答案：D

解析：深龋龋损已达牙本质深层，患者一般有冷热激发痛，对甜酸食物敏感，食物嵌入洞内疼痛加剧，但一般无自发痛。自发痛是牙髓炎的典型表现。所以本题选D。

5.静止龋产生的条件是

A.机体抵抗力增加

B.龋损处致龋的环境消失

C.口腔内致龋菌数量减少

D.口腔唾液流量增加

E.摄糖总量减少

答案：B

解析：静止龋是一种特殊的龋病表现形式，是由于致龋因素消失，龋损停止发展。如邻面龋，由于相邻牙被拔除，龋损表面暴露，自洁作用增强，龋损处致龋的环境消失，龋病不再继续发展。选项A机体抵抗力增加不是静止龋产生的直接原因；选项C口腔内致龋菌数量减少不一定能使龋病停止发展；选项D唾液流量增加和选项E摄糖总量减少有一定的防龋作用，但不是静止龋产生的关键条件。所以本题选B。

6.再矿化治疗时，再矿化液的pH一般调至

A.4

B.5

C.6

D.7

E.8

答案：D

解析：再矿化液的pH一般调至7，在中性环境下有利于钙、磷离子等矿物质在牙齿表面沉积，促进牙齿的再矿化。所以本题选D。

7.银汞合金充填时，备洞要求除外

A.需做成盒形洞

B.有一定固位形状

C.洞缘线圆钝

D.点线角锐利

E.去除无机釉

答案：D

解析：银汞合金充填时，备洞要求做成盒形洞，有一定固位形状，洞缘线圆钝，去除无机釉。点线角应圆钝，避免应力集中，防止充填体折裂和牙齿折裂。所以本题选D。

8.复合树脂充填时，洞缘斜面做在

A.洞缘牙釉质上

B.洞壁牙本质上

C.洞缘牙骨质上

D.洞缘牙本质和牙釉质上

E.洞缘牙骨质和牙釉质上

答案：A

解析：复合树脂充填时，洞缘斜面做在洞缘牙釉质上，目的是增加复合树脂与牙体组织的粘结面积，提高粘结强度。所以本题选A。

9.根管治疗术的步骤为

A.根管预备和充填

B.根管消毒和充填

C.根管预备、消毒和充填

D.根管清理、预备、消毒和充填

E.根管清理、消毒和充填

答案：C

解析：根管治疗术的步骤包括根管预备、根管消毒和根管充填。根管预备是去除根管内的感染物质，形成一定的根管形态；根管消毒是进一步杀灭根管内的细菌；根管充填是严密封闭根管，防止再感染。所以本题选C。

10.急性牙髓炎最有效的应急处理方法是

A.局部麻醉

B.开髓引流

C.服用止痛药

D.消炎止痛

E.针刺止痛

答案：B

解析：急性牙髓炎时，牙髓腔内压力急剧升高，引起剧烈疼痛。开髓引流可以降低牙髓腔内压力，缓解疼痛，是最有效的应急处理方法。局部麻醉、服用止痛药、针刺止痛等只能暂时缓解疼痛，不能从根本上解决问题；消炎止痛是后续的治疗措施。所以本题选B。

11.慢性牙髓炎的主要病理变化是

A.血管扩张、充血

B.淋巴细胞、浆细胞浸润

C.中性粒细胞浸润

D.成纤维细胞增生

E.牙髓组织坏死

答案：B

解析：慢性牙