无斜率选择薄膜生长模型：基于3阶向后差分的高精度数值方法探索.docx

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2025-04-24 发布于上海
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无斜率选择薄膜生长模型：基于3阶向后差分的高精度数值方法探索.docx

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无斜率选择薄膜生长模型：基于3阶向后差分的高精度数值方法探索

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代科技和工业领域，薄膜生长技术占据着举足轻重的地位，其应用广泛且深入。从半导体工业中制造集成电路和电子器件，如薄膜晶体管（TFT）用于液晶显示器（LCD）和有机发光二极管（OLED）等平面显示技术，金属薄膜作为集成电路和电子器件的金属化层以提供导电性，介电薄膜用于隔离不同电路层防止电子器件之间的干扰；到光学领域，抗反射薄膜用于减少光学元件表面的反射以提高透过率，反射镀膜用于制造镜片、反光镜和其他光学元件来控制光的反射和透射性能，光学滤波器通过调整薄膜的光学性质选择性地透过或反射特定波长的光；再