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半导体分立器件行业发展趋势与市场前景解析
前言
伴随材料的发展,半导体分立器件的制造工艺也在不断进步。新型的薄膜沉积技术、离子注入、以及化学机械抛光(CMP)等工艺的引入,使得器件的均匀性和性能得到显著提升。集成化的趋势也促使更多的分立器件以模块化的形式出现,降低了系统设计的复杂性,提高了产品的可靠性。随着制造成本的降低,这些技术的普及将进一步推动市场的增长。
随着对高效能和高耐压器件需求的增加,宽禁带半导体材料如氮化镓(GaN)和碳化硅(SiC)逐渐受到重视。这些材料相比传统的硅(Si),具备更高的击穿电压、更低的导通损耗和更好的热稳定性。这使得
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