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•定義:是指溶質(或濃溶液)體積與溶劑體積之比值。
•舉例:1:5硫酸溶液就是一體積濃硫酸與五體積水配製而成。
2.克升濃度計算:
•定義:一升溶液裏所含溶質的克數。
•舉例:100克硫酸銅溶於水溶液10升,問一升濃度是多少?
100/10=10克/升
3.重量百分比濃度計算
(1)定義:用溶質的重量占全部溶液重理的百分比表示。
(2)舉例:試求3克碳酸鈉溶解在100克水中所得溶質重量百分比濃度?
4.克分子濃度計算
•定義:一升中含1克分子溶質的克分子數表示。符號:M、n表示溶質的克分子數、V表示溶液的體積。
如:1升中含1克分子溶質的溶液,它的克分子濃度為1M;含1/10克分子濃度為0.1M,依次類推。
•舉例:將100克氫氧化鈉用水溶解,配成500毫升溶液,問這種溶液的克分子濃度是多少?
解:首先求出氫氧化鈉的克分子數:
5.當量濃度計算
•定義:一升溶液中所含溶質的克當量數。符號:N(克當量/升)。
•當量的意義:化合價:反映元素當量的內在聯繫互相化合所得失電子數或共同的電子對數。這完全屬於自然
規律。它們之間如化合價、原子量和元素的當量構成相表關係。
元素=原子量/化合價
•舉例:
鈉的當量=23/1=23;鐵的當量=55.9/3=18.6
•酸、堿、鹽的當量計算法:
•定義:物體單位體積所有的重量(單位:克/釐米3)。
•測定方法:比重計。
•舉例:
A.求出100毫升比重為1.42含量為69%的濃硝酸溶液中含硝酸的克數?
解:由比重得知1毫升濃硝酸重1.42克;在1.42克中69%是硝酸的重量,因此1毫升濃硝酸中
硝酸的重量=1.42×(60/100)=0.98(克)
•B.設需配製25克/升硫酸溶液50升,問應量取比量1.84含量為98%硫酸多少體積?
解:設需配製的50升溶液中硫酸的重量為W,則W=25克/升50=1250克
由比重和百分濃度所知,1毫升濃硫酸中硫酸的重量為:1.84×(98/100)=18(克);則應量取濃硫酸的體積1250/18
=69.4(毫升)
•波美度與比重換算方法:
A.波美度=144.3-(144.3/比重);B=144.3/(144.3-波美度)
第二章電鍍常用的計算方法
在電鍍過程中,涉及到很多參數的計算如電鍍的厚度、電鍍時間、電流密度、電流效率的計算。當然電鍍面積
計算也是非常重要的,為了能確保印製電路板表面與孔內鍍層的均勻性和一致性,必須比較精確的計算所有的被鍍
面積。目前所採用的面積積分儀(對底片的板面積進行計算)和電腦計算軟體的開發,使印製電路板表面與孔內面積更
加精確。但有時還必須採用手工計算方法,下例公式就用得上。
1.鍍層厚度的計算公式:(厚度代號:d、單位:微米)d=(C×D×t×ηk)/60r
k
2.電鍍時間計算公式:(時間代號:t、單位:分鐘)t=(60×r×d)/(C×D×ηk)
k
3.陰極電流密度計算公式:(代號:、單位:安/分米2)ηk=(60×r×d)/(C×t×Dk)
4.陰極電流以效率計算公式:Dk=(60×r×d)/(C×t×Dk)
第三章沉銅質量控制方法
化學鍍銅(ElectrolessPlatingCopper)俗稱沉銅。印製電路板孔金屬化技術是印製電路板製造技術的關鍵之一。嚴
格控制孔金屬化質量是確保最終產品質量的前提,而控制沉銅層的質量卻是關鍵。日常用的試驗控制方法如下:
1.化學沉銅速率的測定:
使用化學沉銅鍍液,對沉銅速率有一定的技術要求。速率太慢就有可能引起孔壁產生空洞或針孔;而沉銅速率
太快,將產生鍍層粗糙。為此,科學的測定沉銅速率是控制沉銅質量的手段之一。以先靈提供的化學鍍薄銅為例,
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